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  • R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng)

R-200 Advance R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng)

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  • 型號(hào)R-200Advance
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2024-01-13
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限第1年
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量167
  • 人氣值393
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上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測設(shè)備、封裝設(shè)備、測試設(shè)備。目前公司已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士，擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過硬的團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。
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Picosun R-200 系列原子層沉積系統(tǒng)是一款多功能的原子層沉積平臺(tái)，是用于研發(fā)的理想選擇，適用于 IC 器件、MEMS 器件、顯示器、LED、激光器以及透鏡、光學(xué)部件、珠寶、硬幣、醫(yī)療植入物等 3D 部件的研發(fā)。
R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

● 適用 2 - 8 inch 晶圓，156mm × 156mm 太陽能硅片

● 可適用于多孔，通孔，高深寬比樣品（可達(dá) 1 : 2500）

● 工藝溫度：50 - 500℃

● Advance 型號(hào)配有等離子處理系統(tǒng)，工藝溫度 450℃（可選配特定chuck盤至 650℃）

● 適用鍍膜種類：Al2O3，TiO2，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，ZrO2，AlN，TiN，Pt，Ir 等

● 手動(dòng)上料，可選配機(jī)械臂，搬運(yùn)機(jī)器人或 Cassette-to-Cassette 上料

● 前驅(qū)體種類：液體、固體、氣體、臭氧源、等離子體等

關(guān)鍵詞：搬運(yùn)機(jī)器人
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