膜厚儀 FR-Mic 是一款快 速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,可以將 光斑縮小到幾個(gè)微米,進(jìn)而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺(tái)專(zhuān) 用計(jì)算機(jī)控 制的 XY 工作臺(tái),使其快 速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特 性 。也可以搭配自動(dòng)平臺(tái)測(cè)量 400x400mm 大小樣品。
Thetametrisis利用 FR-Mic,通過(guò)紫外/ 可見(jiàn)/ 近紅外可輕易對(duì)局部區(qū)域薄膜厚度,厚度映射,光學(xué)常數(shù),反射率,折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)量。
【相關(guān)應(yīng)用】
高校 & 研究所實(shí)驗(yàn)室
半導(dǎo)體制造 (氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)
MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
LEDs, VCSELs 多層膜測(cè)量應(yīng)用
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
陽(yáng)極處理氧化膜
曲面基底的硬化涂層
聚合物膜層, 粘合劑.
生 物醫(yī)學(xué)(聚對(duì)二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
OEM或客制化應(yīng)用
【特點(diǎn)】
實(shí)時(shí)光譜測(cè)量
薄膜厚度,光學(xué)特性,非均勻性測(cè)量, 厚度映射
使用集成 USB 高品質(zhì)彩色攝像機(jī)進(jìn)行成像 (所視即所測(cè))
【技術(shù)參數(shù)】
型號(hào) | UV/VIS | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR | DUV/NIR | VIS/NIR | DVIS/NIR | NIR | NIR-N2 | |
光譜波長(zhǎng)范圍(nm) | 200–850 | 200–1020 | 200-1100 | 200–1700 | 370–1020 | 370–1700 | 900–1700 | 900-1050 | |
光譜儀像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 | 3648 | |
膜厚測(cè)量范圍 | 5X- VIS/NIR | 4nm-60um | 4nm-70um | 4nm-90um | 4nm-150um | 15nm-90um | 15nm-150um | 100nm-150um | 4um-1mm(SiO2) |
10X- UV/VIS/NIR | 4nm-50um | 4nm-60um | 4nm-80um | 4nm-130um | 15nm-80um | 15nm-130um | 100nm-130um | 4um-400um(Si) | |
15X- UV/NIR | 4nm-40um | 4nm-50um | 4nm-50um | 4nm-120um | - | - |
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20X- UV/VIS/NIR | 4nm-25um | 4nm-30um | 4nm-30um | 4nm-50um | 15nm-30um | 15nm-50um | 100nm-50um |
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40X- UV/NIR | 4nm-4um | 4nm-4um | 4nm-5um | 4nm-6um | - | - |
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50X- VIS/NIR | - | - | - | - | 15nm-5um | 15nm-5um | 100nm-5um |
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測(cè)量n&k蕞小厚度 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm |
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準(zhǔn)度 3. | 0.1% or 1nm | 0.2% or 2nm | 50nm or 0.2% | ||||||
精度 4.. | 0.02nm | 0.02nm | 5nm | ||||||
重覆性 5. | 0.05nm | 0.05nm | 5nm | ||||||
光源 | 氘燈&鹵素?zé)?/span>(internal) | 鹵素?zé)?/span>(internal)10000 小時(shí) (MTBF) | |||||||
材料數(shù)據(jù)庫(kù) | >650內(nèi)建材料數(shù)據(jù)庫(kù) |
*測(cè)量面積(收集反射或透射信號(hào)的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關(guān)。
物鏡 | 光斑尺寸(μm) | ||
500μm孔徑 | 250μm孔徑 | 100μm孔徑 | |
5x | 100μm | 50μm | 20μm |
10x | 50μm | 25μm | 10μm |
20x | 25μm | 17μm | 5μm |
50x | 10μm | 5μm | 2μm |
【工作原理】
規(guī)格如有更改,恕不另行通知
測(cè)量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀和 XRD 相比較,
連續(xù) 15 天測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差平均值。樣品:(1um SiO2 on Si.) ,
100 次厚度測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差,樣品:1um SiO2 on Si.
超過(guò) 15 天的標(biāo)準(zhǔn)偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。
使用反射式物鏡
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