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  • ICP干法等離子刻蝕機

ICP干法等離子刻蝕機

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2024-07-03
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量25
  • 人氣值491
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沛沅儀器是一家集等離子體技術設計、制造、產(chǎn)品開發(fā)、銷售與服務于一體的技術型企業(yè),公司致力于提供專業(yè)的等離子表面處理系統(tǒng),向用戶提供國內(nèi)*的等離子表面處理設備和優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務。

公司技術團隊67%以上具備碩士或碩士以上學位,公司由*從事等離子體應用技術研究開發(fā)、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,提供一系列等離子體表面處理系統(tǒng)、等離子體刻蝕系統(tǒng)、常壓等離子清洗設備等,并與中科院上海應用物理研究所,復旦大學,中國科技大學,上??萍即髮W,上海交通大學等建立了密切的技術合作交流關系。

 

公司的愿景是成為等離子體應用領域的優(yōu)質(zhì)供應企業(yè),用科研的沉淀和應用的創(chuàng)新,為中國的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略貢獻一份力量。

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PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng),它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設計與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機械設計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全,且工藝穩(wěn)定重復性很好。
ICP干法等離子刻蝕機 產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品特點

4/6/8英寸兼容,單片晶圓真空傳輸系統(tǒng)

低成本高可靠,適合研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)

● 設備結(jié)構(gòu)簡單,外形小

● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕

● 優(yōu)異的刻蝕均勻性,刻蝕速率快

滿足半導體標準的配方驅(qū)動及管理軟件控制系統(tǒng)

● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小

● 斷面輪廓可控性高,刻蝕表面平整光滑


技術參數(shù)

晶圓尺寸:4/6/8英寸兼容

適用工藝:等離子體刻蝕

適用材料:SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy,etc.


應用領域

適用領域:化合物半導體,MEMS、功率器件、科研等領域


應用.png


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產(chǎn)品名稱參考價地區(qū)公司名稱更新時間 
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