新的光學系統(tǒng)令 ECLIPSE煥發(fā)新風采。
ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業(yè)應用，其中包括半導體器件、封裝、 FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。
ECLIPSE LV 系列經(jīng)過不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學系統(tǒng)和功能，可根據(jù)觀察方法和目的選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。
用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應用需求。
經(jīng)過改進的光學性能
以高數(shù)值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康 CFI60 光學系統(tǒng)經(jīng)過進一步改進，具有長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。
與數(shù)碼相機集成
現(xiàn)可使用數(shù)碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內(nèi)的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進行電動操作，以更可靠地進行觀察和圖像拍攝。
多種觀察方法
采用透射照明觀察時，用戶可借助各類附件采用多種方法觀察更多種類的標本。所有型號都具備明場、暗場、微分干涉、熒光、偏光和雙光束干涉測量觀察功能。此外， LV100DA 和LV100DA-U 還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。
LV系列所有型號：LV100ND LV100DA-U LV150N LV150NA LV150NL
