顯微鏡 LED 曝光單元 UTA 系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設(shè)備。
使用金屬顯微鏡和 LED 光源 DLP 投影儀，將分辨率為幾 μm 的任意圖案投影到涂有光刻膠的基板上進(jìn)行曝光。您可以在計(jì)算機(jī)上自由創(chuàng)建圖案。
另外，可以保存創(chuàng)建的圖案。
與電子束光刻相比，它更便宜、更容易，因?yàn)榭梢栽诳諝庵性诟鞣N大小和形狀的分層材料單晶薄片上形成電極。不需要制造昂貴的電極圖案掩模。
用途
● 薄膜 FET 的電極形成和空穴效應(yīng)測(cè)量樣品
● 從原石的石墨烯鉬中取出剝離的（薄）片，用于評(píng)估石特性的電極形成
● 用于研發(fā)應(yīng)用的圖案形成
特征
● 因?yàn)樗秋@微鏡和 DLP 的組合相比現(xiàn)有系統(tǒng)更便宜的一種曝光設(shè)備
● 易于使用的專用軟件，可讓您輕松創(chuàng)建圖案
● 通過物鏡倍率，可以從精細(xì)圖案到進(jìn)行大范圍的批量曝光
● 可以安裝到您自己的顯微鏡上（取決于顯微鏡的規(guī)格）
● 分辨率為幾微米的圖案成型也是可能的
● 曝光范圍：物鏡 5X：約 1.16×0.72mm / 物鏡 100X：約 60×35μｍ ※曝光范圍僅供參考
☆曝光前可以進(jìn)行測(cè)試投影（因?yàn)槭羌t光，不會(huì)感光）
☆用白光曝光（曝光時(shí)間可以設(shè)置）
