儀器可用于金相、礦相、晶體、微電子等方面進行觀察與分析研究等，是工廠、高等院校、科研機構入電子工業(yè)部門的選擇。采用了反射和透射兩種照明形式，并配有落射偏光裝置。在反射光照明下可進行明場和偏光觀察，又可在透射光照明下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質的光學系統滿足您高要求的成像質量，寬闊的機身更現整體剛性， T 形的外觀設計為您提供了穩(wěn)定的基座。人性化的設計，簡便的操作將您從繁重的工作壓力中解放出來，從而讓您全部的精力投入實驗之中。
| 技術規(guī)格 | 型號 | |||||
| 53XB | 53XC | 53XE | 53XET | |||
| 觀察頭 | 30 度鉸鏈式雙目頭 ( 55mm -75mm ) | ● | ● | |||
| 30 度鉸鏈式三目頭 ( 55mm -75mm ) | ● | ● | ||||
| 目鏡 | WF10 ×/ 20mm | ● | ● | |||
| WF10 ×/ 22mm | ● | ● | ||||
| WF10 ×/ 20mm 帶 0.1mm 十字分劃板 | ○ | ● | ○ | ● | ||
| 轉換器 | 四孔轉換器 | ● | ● | ● | ● | |
| 物鏡 | 195 金相物鏡 | 4 × /0.1W.D .25mm | ● | ● | ||
| 10 × /0.25W.D .11mm | ||||||
| 20 × /0.4W.D .9mm | ||||||
| 40 × /0.6W.D. 3.8mm | ||||||
| 無限遠金相物鏡 | 4 × /0.1W.D .25mm | ● | ● | |||
| 10 × /0.25W.D .11mm | ||||||
| 20 × /0.4W.D .8mm | ||||||
| 40 × /0.6W.D. 3.8mm | ||||||
| 50 × /0.75W.D. 1.9mm 80 × /0.9W.D.0.9mm | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| 平臺 | 雙層移動平臺 | ● | ● | ● | ● | |
| 平臺尺寸 : 180mm ×150mm | ||||||
| 移動范圍 : 75mm × 50mm | ||||||
| 聚光鏡 | N.A1.25 阿貝聚光鏡帶可變光欄和濾色片 | ● | ● | ● | ● | |
| 調焦 | 粗、微動同軸調焦，采用齒輪齒條傳動機構，微動格 | ● | ● | ● | ● | |
| 值0.002mm | ||||||
| 照明 | 落射柯勒照明，帶孔徑可變光欄和視場可變光欄 | ● | ● | ● | ● | |
| 透明照明 12V/30W.AC85V-230V 亮度可調節(jié) | ||||||
| 偏光裝置 | 檢偏鏡可 360 度轉動，起偏鏡檢偏鏡均可移出光路 | ● | ● | ● | ● | |
| 濾色片 | 藍色、綠色、黃色 | ● | ● | ● | ● | |
| 檢測工具 | 0.01mm 測微尺 | ● | ● | ● | ● | |
| 可供附件 | 130 萬、200萬、300 萬、500萬像素 CMOS電子目鏡 | |||||
| 攝影裝置 | ||||||
