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  • 平面激光干涉儀

XQ15-G1 平面激光干涉儀

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號XQ15-G1
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2024-11-30
  • 廠商性質其他
  • 入駐年限7
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量405
  • 人氣值1533
產(chǎn)品標簽

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光密公司產(chǎn)品涵蓋20多個類別幾百款產(chǎn)品,*滿足了廣大客戶在光學儀器一站式購物渠道規(guī)劃需要。主要產(chǎn)品有:金相顯微鏡、生物顯微鏡、熒光顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、立體顯微鏡、檢測顯微鏡、測量顯微鏡、視頻顯微鏡、相襯顯微鏡、放大鏡、讀數(shù)顯微鏡、工具顯微鏡、熔深檢測顯微鏡,珠寶顯微鏡、光切法顯微鏡、干涉顯微鏡、立式光學計、測量投影儀、影像測量儀、阿貝折射儀、金相制樣設備、平行光管、工業(yè)內(nèi)窺鏡、顯微硬度計等各種光學儀器,以及計算機圖像分析軟件和顯微鏡測量軟件、光學儀器配件。產(chǎn)品廣泛應用于農(nóng)牧、輕工、機械、電子、冶金、地礦、化工、紡織、生物、安防等各領域,涵蓋企業(yè)、教育、衛(wèi)生、國防等部門及各大專院校 、科研單位。
光密秉承“專業(yè)、誠信、高效、突破”的經(jīng)營理念,以成熟的技術和可靠的產(chǎn)品質量服務用戶,貢獻社會,發(fā)展自已。 光密人期待著與您進行各種形式的合作,共同攜手致力于國家光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展作出較大的貢獻!

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用途:XQ15-G1激光平面干涉儀可廣泛用于工廠的計量室、光學車間和科研院所的實驗室
平面激光干涉儀 產(chǎn)品詳情

用途:
    XQ15-G1激光平面干涉儀可廣泛用于工廠的計量室、光學車間和科研院所的實驗室。光學平面的平面度測量、光學平板的微小楔角測量、光學材料均勻性測量、光學薄板波前誤差的測量。
特點:
    防震性能好、有的條紋鎖定度、視場清晰、生產(chǎn)場所可用性優(yōu)于市場同類產(chǎn)品,大容量的工作室為大批量生產(chǎn)企業(yè)的大鏡面檢測提供了方便。
技術參數(shù):
標準平面(A面),工作直徑D1=Φ146mm,平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)
第二標準平面(B面),工作直徑D2=Φ140mm,平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)
準直系統(tǒng)-----------------工作直徑Φ146mm,焦距 f = 400mm
光源規(guī)格-----------------激光ZN18(He-Ne)
干涉室尺寸----------------Φ480×380×285mm
 
選配件一:
精密升降工作臺(適用GⅠ、GⅡ型)
用途:主要用于平晶、平行平晶等非鍍膜面高精度平面度的測量與檢定以及儀器采用鈉光或汞光照明時的測量。
 
XQ15-GⅠ激光平面干涉儀
選配件二:
透檢工作臺(適用GⅠ型)
用途:主要用于超薄平行平板的波前誤差測量、光學平板微小楔角相對干涉測量以及光學材料折射率均勻性的偏差判斷。
XQ15-GⅠ激光平面干涉儀
選配件三:
高反射面測量工作臺(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)
用途:主要用于鍍反射膜及高折射率材料(如硅、鍺等材料)表面精度的測量與檢定。
XQ15-GⅠ激光平面干涉儀
選配件四:
顯示監(jiān)控系統(tǒng)(適用GⅠ型)
用途:顯示監(jiān)控系統(tǒng)的應用,可減輕操作者的勞動強度,并可實施多人判讀與分析,以達到教學與監(jiān)控的目的。
XQ15-GⅠ激光平面干涉儀
選配件五:
計算機影像系統(tǒng)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)
用途:影像系統(tǒng)的應用,可將被檢測鏡面的原始資料通過計算機保存和傳輸,以達到資料存檔及遠程監(jiān)控、驗收評定質量的目的。
XQ15-GⅠ激光平面干涉儀
選配件六:
倍率成像測微系統(tǒng)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)
用途:主要用于目視精確量值的索得及小型被測件干涉條紋按要求放大測量與判讀。
技術參數(shù):
測微目鏡放大率15X
倍率成像測微目鏡適用范圍見下表:
規(guī)格 size 焦距 
focal length(mm)
放大倍率(β) 
magnification
適用被測口徑 
Working aperture
F15 151 0.56 Ф90~Ф150
F23 23 0.86 Ф50~Ф105
F37 37 1.39 Ф60以下
XQ15-GⅠ激光平面干涉儀
 
 

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