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儀表網(wǎng)>產(chǎn)品庫(kù)>測(cè)量/計(jì)量>其它測(cè)量>其它測(cè)量>scia Mill 150
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scia Mill 150

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地北京市
  • 更新時(shí)間2025-02-13
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限第1年
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量56
  • 人氣值12
產(chǎn)品標(biāo)簽

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scia Mill 150適用于在多種材料復(fù)雜多層膜上的微結(jié)構(gòu)刻蝕。該系統(tǒng)對(duì)活性氣體相容，能夠進(jìn)行反應(yīng)蝕刻工藝以提高選擇性和刻蝕速率。由于其節(jié)省空間的設(shè)計(jì)，scia Mill 150是小規(guī)模生產(chǎn)和研發(fā)應(yīng)用的理想選擇。
scia Mill 150 產(chǎn)品詳情
常規(guī)屬性

- 采用圓形離子源對(duì)全部樣品區(qū)域在惰性或反應(yīng)氣體環(huán)境下進(jìn)行刻蝕

- 可進(jìn)行離子束刻蝕（IBE、IBM）、反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE）和化學(xué)輔助離子束刻蝕（CAIBE）

- 刻蝕角度調(diào)整：樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)且傾斜可調(diào)

- 可獲得的均勻性而無(wú)需修正擋板

- 通過(guò)反應(yīng)氣體可以提高刻蝕速率，并控制刻蝕選擇性

- 通過(guò)基于SIMS（二次離子質(zhì)譜）或光學(xué)的截止點(diǎn)探測(cè)技術(shù)控制工藝

- 可配備晶圓載具（wafer carrier）以適用不同尺寸基底

- 可以刻蝕光刻膠晶圓，具有良好的樣品冷卻配置

系統(tǒng)性能

scia Mill 150

樣品尺寸

ф150mm

樣品夾具

水冷，氦背板冷卻

轉(zhuǎn)速：5 - 20 rpm

傾斜：0° - 165°

步長(zhǎng)   0.1°

離子源

ф218mm的圓形ECR 微波源 MW218-e                     

中和器

等離子體橋中和器N-3DC

參考刻蝕速率

SiO2：30nm/min

刻蝕均勻性

≦1% (σ/mean)

基礎(chǔ)真空度

5 x 10-7 mbar

尺寸（不含電柜與真空泵）       

1.7m x 1.7m x 1.7m 

軟件界面

SECS II / GEM, OPC

標(biāo)準(zhǔn)配置

1 個(gè)工作倉(cāng)


配置選項(xiàng)

- 單片 Load-Lock（可選）， OES 或SIMS截止點(diǎn)探測(cè)器（可選），加熱套

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