透射電鏡（TEM）用氧化硅薄膜窗格

氧化硅與氮化硅薄膜窗格比較：

相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，則會與樣本造成混淆。

樣本安置面：

對多數(shù)用戶來說，樣本應(yīng)安置在薄膜窗格的“覆膜面”而非“蝕坑面”。但我們也知道在一些特殊情況下，蝕坑面也可安置樣本。除對樣本進(jìn)行原子力顯微鏡（AFM）觀測外，蝕坑面本質(zhì)上并非不可用于放置樣本。實際上，沒有一個顯微鏡的懸臂可以伸至蝕坑內(nèi)“看清”薄膜表面。

產(chǎn)品規(guī)格：

氧化硅薄膜窗特點：

清洗：采用等離子清洗，無有機(jī)物殘留，改善成像質(zhì)量；

均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性；

穩(wěn)定性： 耐高溫，>1000℃；

良好的化學(xué)穩(wěn)定性：圖像分辨率和機(jī)械強(qiáng)度達(dá)到理想的平衡；

化學(xué)計量比的SiO2：可用于氮氣環(huán)境下的EDX分析；

氧化硅薄膜窗規(guī)格

優(yōu)點：

• SEM應(yīng)用中，薄膜背景不呈現(xiàn)任何結(jié)構(gòu)和特點。
• x-射線顯微鏡中，裝載多個分析樣的*方法。
• 無氮

應(yīng)用：

氧化硅薄膜應(yīng)用范圍非常廣，甚至有時使不可能變?yōu)榭赡?，但所有?yīng)用都有無氮要求（因樣本中有氮存在）：

● 惰性基片可用于高溫環(huán)境下，通過TEM、SEM或AFM（某些情況下）對反應(yīng)進(jìn)行動態(tài)觀察。

● 作為耐用（如“強(qiáng)力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下對同一區(qū)域進(jìn)行“匹配”。

● 作為耐用匹配基片，對AFM和TEM圖像進(jìn)行比較。

● 聚焦離子束（FIB）樣本的裝載，我們*使用多孔薄膜，而非不間斷薄膜。

 氧化硅薄膜TEM網(wǎng)格操作使用： 

如果正確操作，氧化硅薄膜將會擁有非常好的性能。相反，若用工具直接接觸薄膜，則會即刻損壞薄膜。為防損壞，可用尖嘴鑷子小心夾取，就像夾取其他TEM網(wǎng)格一樣。 

使用前清潔：
    氧化硅薄膜窗格在使用前不需進(jìn)行額外清潔。有時薄膜表面邊角處會散落個別氧化物或氮化物碎片。由于單片網(wǎng)格需要從整個硅片中分離，并對外框進(jìn)行打磨，因此這些微小碎片不可避免。盡管如此，我們相信這些碎片微粒不會對您的實驗產(chǎn)生任何影響。

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