ALD R-200 Advanced 原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Advanced-儀表網(wǎng)

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北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年,是一家經(jīng)營(yíng)歐美和日本等國(guó)*科學(xué)測(cè)試儀器和設(shè)備,并將*進(jìn)技術(shù)引入國(guó)內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè).經(jīng)過(guò)十年的發(fā)展，公司在北京、上海、廣州、武漢均設(shè)有辦事處。

公司用受人尊敬的、專(zhuān)業(yè)的方式來(lái)經(jīng)營(yíng)公司的業(yè)務(wù)（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。

公司的主營(yíng)儀器包括：分子相互作用分析儀器、表/界面分析測(cè)試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。

公司愿景：
公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專(zhuān)業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專(zhuān)有技術(shù)提供商，實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Advanced
PICOSUN™ R系列ALD產(chǎn)品能夠沉積高質(zhì)量薄膜，即使襯底結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜，如多孔材料、高深寬比的溝槽或者納米顆粒, 沉積的薄膜均勻性也極其優(yōu)異。Picosun功能強(qiáng)大、易更換的固、液、氣態(tài)前驅(qū)體輸運(yùn)系統(tǒng)確保可以在硅平面基片，3D復(fù)雜基片及所有納米尺度的特征器件上制備無(wú)顆粒的薄膜。

原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Advanced 產(chǎn)品詳情

原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Advanced技術(shù)參數(shù)

襯底尺寸和類(lèi)型50 – 200 mm /單片
zui大可沉積直徑150 mm基片，豎直放置，10-25片/批次（根據(jù)工藝）
特殊選項(xiàng)：zui大200 mm，豎直放置，5-15片每批（根據(jù)工藝）
156 mm x 156 mm 太陽(yáng)能硅片
3D 復(fù)雜表面襯底
粉末與顆粒
Roll-to-roll, 襯底zui大寬 70 mm
多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品
原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Advanced工藝溫度

50 –500 °C, 可選更高溫度
原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Advanced基片傳送選件

氣動(dòng)升降（手動(dòng)裝載）
預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手（Load lock ）
半自動(dòng)的機(jī)械裝載
集群系統(tǒng)的批量裝載（Cassette-to-cassette ）
前驅(qū)體

液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源、等離子體
12根獨(dú)立源管線，zui多加載6個(gè)前驅(qū)體源
重量

350 + 200 kg
尺寸 (W x H x D)

取決于選件
zui小 146 cm x 146 cm x 84 cm
zui大 189 cm x 206 cm x 111 cm
選件

集群工具，PICOFLOW? 擴(kuò)散增強(qiáng)器，集成橢偏儀，QCM，RGA，超高真空兼容，N2發(fā)生
器，尾氣處理器，定制設(shè)計(jì)，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）。
驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝

關(guān)鍵詞：原子層沉積系統(tǒng) 機(jī)械手橢偏儀發(fā)生器手套箱

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