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摘要目前化學(xué)摻雜調(diào)控鐵電性通常以陽離子摻雜為主,而陰離子摻雜由于合成困難,通常較少涉及。在可供選擇的陰離子中,氮離子(N3-)和氧離子(O2-)具有非常相似的電子結(jié)構(gòu)和離子半徑。

  【儀表網(wǎng) 研發(fā)快訊】近日,深圳校區(qū)材料科學(xué)與工程學(xué)院陳祖煌教授團隊在鐵電薄膜領(lǐng)域取得新進展,研究成果以《氮摻雜實現(xiàn)鈣鈦礦氧化物鐵電性能的顯著增強》(Large Enhancement of Ferroelectric Properties of Perovskite Oxides Via Nitrogen-incorporation)為題發(fā)表在《科學(xué)進展》(Science Advances)上。研究團隊利用脈沖激光沉積工藝,在氮氣(N2)生長氣氛中,成功制備了高質(zhì)量氮摻雜鈦酸鋇(BaTiO3)鐵電薄膜,并實現(xiàn)了鈦酸鋇鐵電性能的顯著增強。
 
  目前化學(xué)摻雜調(diào)控鐵電性通常以陽離子摻雜為主,而陰離子摻雜由于合成困難,通常較少涉及。在可供選擇的陰離子中,氮離子(N3-)和氧離子(O2-)具有非常相似的電子結(jié)構(gòu)和離子半徑。然而,氮氣中氮原子間具有很強的共價鍵,其與氧化物之間的直接反應(yīng)需要非常高的能量。因此,與陽離子取代的鈣鈦礦氧化物不同,在惰性氮氣氣氛中通過傳統(tǒng)的固相反應(yīng)很難直接合成氮摻雜的鈣鈦礦氧化物。近年來提出的高溫氨化反應(yīng)和低溫拓?fù)浠瘜W(xué)反應(yīng)等方法雖可實現(xiàn)氮摻雜,但這些合成方法主要以氨氣(NH3)作為氮源,導(dǎo)致在反應(yīng)的過程中金屬陽離子(如Ti??)容易被還原,并且極易引入氫元素,導(dǎo)致漏電流密度增加,極不利于材料的鐵電性。
 
  針對上述問題,陳祖煌教授團隊利用脈沖激光沉積工藝,在氮氣生長氣氛中成功合成了氮摻雜鈦酸鋇鐵電薄膜。研究發(fā)現(xiàn)隨著生長氣氛中N2濃度的增加,BaTiO3薄膜的絕緣性有了極大的改善,其漏電流密度最高下降了2個數(shù)量級;并結(jié)合第一性原理計算發(fā)現(xiàn)與鈦-氧(Ti-O)相比,鈦-氮(Ti-N)之間具有更強的雜化作用,它能有效增強鈦的離子位移。相應(yīng)地,氮摻雜鈦酸鋇薄膜的極化強度達到約70μC/cm2,比鈦酸鋇塊體高3倍,薄膜的居里溫度達到約940℃,比塊體材料高約7倍。該研究工作不僅為合成氮氧化物提供了一種有效的策略,而且表明了氮摻雜的鈦酸鋇薄膜在高溫?zé)o鉛鐵電領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景,進一步展示了陰離子調(diào)控在實現(xiàn)材料性能顯著提升方面的巨大潛力。
 
圖1 氮摻雜鈦酸鋇薄膜四方性的顯著增強
 
圖2 不同氮氧比例氣氛下生長鈦酸鋇薄膜的鐵電性
 
  哈工大深圳校區(qū)為論文第一完成單位,陳祖煌教授為論文通訊作者。哈工大深圳校區(qū)博士研究生王濤、中國科學(xué)院金屬研究所宮風(fēng)輝博士、蘇州大學(xué)博士研究生馬雪、哈工大深圳校區(qū)碩士研究生潘燊以及廈門大學(xué)魏現(xiàn)奎教授為論文共同第一作者。蘇州大學(xué)許彬教授、中國臺灣陽明交通大學(xué)郭昌洋教授、美國賓夕法尼亞州立大學(xué)文卡特拉曼·戈帕蘭(Venkatraman Gopalan)教授、德國馬克斯·普朗克研究所張春富博士、印度科學(xué)學(xué)院蘇吉(Sujit Das)教授和美國阿肯色大學(xué)洛朗(Laurent Bellaiche)教授等參與相關(guān)研究工作。
 
  該研究工作獲得了國家自然科學(xué)基金面上項目和深圳市科技創(chuàng)新項目的支持。哈工大全媒體(劉培香 王濤 王舒邈/文 王濤/圖)

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