用途：

本設(shè)備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。

主要技術(shù)參數(shù)：

1. 真空室：∅220mm*H380mm（標(biāo)配380mm高，若需要LIFT-OFF工藝腔體需加工至500）；2. 可鍍工件直徑：60*60mm,配抽拉式樣品臺(tái)，樣品可旋轉(zhuǎn)；另配備銅基板樣品臺(tái)；

3. 極限真空度：優(yōu)于5*10^-5Pa（機(jī)械泵系統(tǒng)）、8*10^-5Pa（分子泵系統(tǒng)）;4. 抽氣時(shí)間：大氣壓~6*10^-4Pa小于300min；5. 蒸發(fā)：電阻式蒸發(fā)電極（2對(duì)）   功率：2KW；配備1套數(shù)顯蒸發(fā)電源，可對(duì)兩組蒸發(fā)源進(jìn)行切換使用。

6. 開啟方式：正面開門結(jié)構(gòu)，便于換絲及裝料；7. 真空系統(tǒng)：機(jī)械泵真空系統(tǒng)（機(jī)械泵+分子泵系統(tǒng)選配）；

8. 水冷循環(huán)系統(tǒng) 0.5P；

設(shè)備結(jié)構(gòu)介紹：

該設(shè)備由真空室、真空機(jī)組和電氣系統(tǒng)組成

1. 真空室

圓形形腔體，側(cè)部抽氣，正面開門。不銹鋼材質(zhì)，配φ100觀察窗（含防污擋板）、預(yù)抽接口、充氣接口；內(nèi)部有底板、蒸發(fā)源（兩組蒸發(fā)源相互隔離避免交叉污染），蒸發(fā)源上配有手動(dòng)擋板裝置等；

1. 真空系統(tǒng)及進(jìn)氣

采用110L分子泵+4L旋片式機(jī)械泵。采用真空波紋管連接，配有復(fù)合式數(shù)顯真空測(cè)量?jī)x表。

可根據(jù)需要選配流量計(jì)，用于進(jìn)氣流量精確控制。

1. 電氣系統(tǒng)

電氣系統(tǒng)包括真空機(jī)組控制、蒸發(fā)與烘烤控制、真空測(cè)量控制等部分組成。有安全互鎖機(jī)構(gòu)，有效防止誤操作發(fā)生。系統(tǒng)配有1套蒸發(fā)電源，通過切換選擇上電。

1. 膜厚測(cè)量裝置：采用石英晶振膜厚儀及水冷探頭一套（選配）。

蒸發(fā)示意圖

氣路原理圖