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所 在 地北京市
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更新時(shí)間:2025-01-17 09:35:00瀏覽次數(shù):11次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 儀表網(wǎng)PCM結(jié)晶監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
PCM結(jié)晶監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
結(jié)晶監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(PCM)專為在線測(cè)量結(jié)晶工藝過(guò)程而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)結(jié)合了原位工藝過(guò)程顯微鏡與的圖像分析技術(shù)。PCM提供工藝過(guò)程的實(shí)時(shí)影像視圖和關(guān)于晶體特征的詳細(xì)分析數(shù)據(jù),例如尺寸分布,形態(tài)和濃度。PCM的測(cè)試結(jié)果可以有效地幫助過(guò)程優(yōu)化、過(guò)程控制和故障排查。使用PCM可以幫助提高過(guò)程產(chǎn)能,降低最終產(chǎn)品的質(zhì)量波動(dòng)。PCM具有靈活的安裝機(jī)制,它可安裝在從實(shí)驗(yàn)室到規(guī)模生產(chǎn)階段的反應(yīng)釜及結(jié)晶器多種設(shè)備中。這種技術(shù)可以被用于連續(xù)生產(chǎn)過(guò)程或批次生產(chǎn)過(guò)程。
PCM的基礎(chǔ)是實(shí)時(shí)影像,它為您提供有關(guān)工藝過(guò)程有價(jià)值的可視化信息。此外,t結(jié)晶監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(PCM)的圖像分析算法可以檢測(cè)圖像數(shù)據(jù)中的晶體和其它粒子,獲得過(guò)程結(jié)晶分布的實(shí)時(shí)統(tǒng)計(jì)結(jié)果并生成關(guān)于其特征以及其它懸浮體特性的詳細(xì)實(shí)時(shí)數(shù)字信息。
PCM測(cè)試結(jié)果
- 晶體尺寸分布和相關(guān)統(tǒng)計(jì)(平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差; D10,D50,D90等)
- 晶體生長(zhǎng)速率
- 晶體長(zhǎng)徑比
- 測(cè)試區(qū)域的晶體數(shù)量和成核速率
- 體系流動(dòng)性
- 晶體尺寸累積分布(D10, D50, D90等)
- 微晶和粗晶百分比
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