MUSASHINO武藏野電子PJ-2真空吸盤式夾具

MUSASHINO武藏野電子PJ-2真空吸盤式夾具

真空吸盤式夾具PJ-2，PJ-3，PJ-4，高精度刀柄HPJ-68，HPJ-78，HPJ-89，HPJ-100，HPJ-120，透射電鏡支架，厚度調節(jié)支架，多用途支架，粘貼架，帶金剛石塞的支架，不平衡負載支架，夾夾器，2 軸測角儀樣品架

產品介紹

真空吸盤式夾具

可以通過吸塵固定樣品并自動拋光設定的拋光量。

非常適合制備透射電子顯微鏡樣品和減薄化合物半導體（例如 Si 晶圓和 InP）。

工件被環(huán)氧樹脂固定在帶有定向平面的玻璃板上，并固定在夾具的吸附面上。

特征

可自動拋光設定拋光量的支架。

拋光量設定精度可調整至±3μm以內（使用最小讀數為1μm的百分表）。

拋光后薄片厚度精度保持在±1μm以內。

附有零間隙制動器。

行程寬度為5mm。

高精度刀柄，透射電鏡支架

通過設定所需的拋光量，可以實現自動精密拋光。

非常適合制備透射電子顯微鏡樣品和減薄化合物半導體（例如 Si 晶圓和 InP）。

特征

可自動拋光設定拋光量的支架。

拋光量設定精度可調整至±3μm以內（使用最小讀數為1μm的百分表）。

研磨后的平行精度可保持在±1μm以內。

附有零間隙制動器。

行程寬度為5mm。

我們還可以提供安裝板，用于以您所需的角度進行對角拋光。

備有帶彈簧的減載型、嵌入樹脂型。

還可選擇用于微小傾斜調整的 2 軸測角儀。

厚度調節(jié)支架

通過以 10 µm 為增量設置拋光量，可以實現自動精密拋光。除Φ52mm、Φ78mm標準安裝板外，我們還接受定制產品。

特征

可設定拋光量，自動拋光所需量。

拋光量可調節(jié)，最小刻度為10μm。

我們還接受有關其他定制夾具的咨詢。

多用途支架

特征

附件夾具允許您粘附和拋光尺寸為40mm x 30mm的樣品。

附帶傾斜拋光夾具（5°傾斜），用于傾斜拋光。

使用夾緊夾具，可以在夾緊樣品的同時翻轉夾具來拋光兩個端面。

我們也接受定制夾具。

粘貼架

可以將樣品安裝到安裝板上并進行拋光工作。有帶導向環(huán)的支架和平板支架兩種。

特征

平行于安裝板進行拋光時，宜使用支撐導向環(huán)的夾具。

拋光已經平行的材料或學習拋光機表面時最好使用平板支架。

可選配導向環(huán)，以幫助將支架插入導向環(huán)。（為了保持導向環(huán)內徑和支架外徑之間的平行精度，已設置公差以盡量減少它們之間的間隙。）

帶金剛石塞的支架

拋光量可以通過調節(jié)金剛石擋塊來設定。通過調節(jié)三個擋塊也可以進行對角拋光。

特征

三個金剛石塞子為旋入式，拋光量可調節(jié)。

限位螺釘旋轉一次即可調整500 µm。

通過調整傾斜度，也可以進行對角拋光。

不平衡負載支架

該支架允許您通過將樣品朝您想要拋光的方向傾斜來設置重心。如果拋光后發(fā)現拋光面有傾斜，可以校正傾斜。

特征

當使用其他樣品支架加工表面傾斜時，該支架用于校正傾斜。

其設計是通過將負載（通常設置在旋轉中心）向要拋光的區(qū)域傾斜來設置重心。

嵌入式樣品架

非常適合拋光樹脂嵌入樣品和圓柱形樣品。拋光量可以使用高度調節(jié)環(huán)進行調節(jié)。

特征

可以固定樹脂嵌入樣品和圓柱形樣品，同時使用高度調節(jié)環(huán)調節(jié)拋光量。

將導向環(huán)內的螺釘對準支架側面的V型槽并插入，樣品將根據導向環(huán)旋轉，而不會粘在拋光盤上。

可選配導向環(huán)，以幫助將支架插入導向環(huán)。（為了保持導向環(huán)內徑和支架外徑之間的平行精度，已設置公差以盡量減少它們之間的間隙。）

嵌入式樣品架

可以同時拋光多個樹脂嵌入的樣品。我們將根據您要求的樣品安裝位置數量和樣品尺寸定制支架。

特征

可同時拋光多個樹脂包埋樣品或圓柱形樣品，提高工作效率。

可以對嵌入室溫固化樹脂的樣品或圓柱形樣品進行夾緊和拋光。

兼容MA-150拋光裝置的產品是Φ25mm的三片式樣品架。

通過使用旋轉輔助環(huán)，可以進行平行度精度更高的拋光。

夾夾器

非常適合拋光板狀試樣和塊狀試樣的端面?？梢灾苯臃胖脴悠范粚⑵淝度霕渲小?/span>

特征

可將板狀樣品放置在3個夾緊部位上并進行直角拋光。

無需取出樣品即可拋光頂面和底面，從而實現平行光潔度。

根據樣品尺寸，我們接受所需厚度的夾具。我們還可以按照您所需的角度制造拋光夾具。

2 軸測角儀樣品架

通過校正兩個軸的方向可以進行拋光。角度拋光工作可以輕松完成。

特征

通過使用安裝在X射線Laue相機導軌上的附件，您可以通過校正兩個軸的方向來執(zhí)行拋光工作。

手動拋光支架

可與手動拋光裝置MM-200配合使用的拋光支架?？梢栽O定拋光量。

特征

使用手動拋光裝置MM-200進行拋光時使用。

可以通過控制手動拋光時的拋光量來進行加工。