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MATRIX-F近紅外光譜儀

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地青島市

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更新時間:2024-11-11 09:03:47瀏覽次數(shù):41次

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產(chǎn)品簡介

MATRIX-F 是一款專用 FT-NIR過程光譜儀,經(jīng)得任何考驗。儀器使用的光譜技術(shù),在緊湊的模塊系統(tǒng)中實現(xiàn)出色的靈敏性和穩(wěn)定性。其創(chuàng)新設(shè)計提供始終如一的高質(zhì)量檢測結(jié)果,并節(jié)約停機時間,模型直接傳遞,在新應(yīng)用中并不會降低靈敏度和精度。支持工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)通信協(xié)議,確保輕松集成。MATRIX-F 可安裝在實驗室作為一立式系統(tǒng),開發(fā)合適的方法,并可直接轉(zhuǎn)到您的過程應(yīng)用分析。使用NEMA 4/I......

詳細(xì)介紹

傅立葉近紅外分析技術(shù)的實時在線監(jiān)控的優(yōu)勢已。然而,傳統(tǒng)的光譜儀只能安裝在靠近監(jiān)控生產(chǎn)線的地方,這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環(huán)境中。而且,測量點有時很難接近,甚至是防爆等危險區(qū)。

通過利用光纖技術(shù),MATRIX-F 主機可與實測點相距數(shù)百米,將探頭直接安裝在采樣點,大大簡化了工業(yè)現(xiàn)場測試的難度。此外,當(dāng)環(huán)境特別惡劣時可將主機置于帶空調(diào)的工業(yè)小屋內(nèi),這樣可以消除溫度影響,進(jìn)一步優(yōu)化光譜儀的性能,還可以保護(hù) MATRIX-F,防止其遭受過度污垢和灰塵。

常見的過程控制包括監(jiān)測化學(xué)反應(yīng)以及中間產(chǎn)品和成品的質(zhì)量:

  •  直接監(jiān)測生產(chǎn)反應(yīng)器和管道中樣品

  • 遠(yuǎn)距離測量

  • 加深過程理解和控制

  • 用于測定不同行業(yè)混合過程均勻性、化學(xué)品組分濃度和聚合過程狀態(tài)的理想工具

MATRIX-F 是目前的只用一臺儀器就可對物料進(jìn)行接觸式測量和非接觸式測量的光譜儀。有不同的測量附件可供使用:

  • 光纖探頭:可根據(jù)需要配置漫反射、透反射或不同光程長度的液體透射探頭,以及流通池或其他試驗性裝置。還可根據(jù)物料性質(zhì)選擇配置不同材質(zhì)的探頭,如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷

  • 非接觸式測量的發(fā)射探頭:非接觸式發(fā)射探頭內(nèi)置鎢燈光源,可以直接照射樣本,并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式,可以進(jìn)行遠(yuǎn)程非接觸式測量,實現(xiàn)一系列全新應(yīng)用。它可以提供多達(dá)六個流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F duple。


關(guān)鍵詞:光譜儀 過程控制
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