光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2HR

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2HR半導(dǎo)體工廠對(duì)高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及*的穩(wěn)定性享有盛譽(yù)。光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2HR的傳輸系統(tǒng)在長(zhǎng)時(shí)間的操作中可以保持傳輸穩(wěn)定，性能優(yōu)異，輸出良好的特點(diǎn)，而現(xiàn)在光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2HR又可實(shí)現(xiàn)低至0.35µm的信號(hào)檢測(cè)。

可適配任意一種Stepper盒的PR-PD2HR可處理多至10個(gè)卡夾，也支持多種通訊協(xié)議。作為PD系列的一員，本設(shè)備提供高功能性對(duì)應(yīng)多種Reticle和掩模版顆粒物監(jiān)測(cè)任務(wù)，同時(shí)也可在高速輸出的條件下進(jìn)行Glass面及Pellicle面的監(jiān)測(cè)。PR-PD2HR可對(duì)半導(dǎo)體工廠的產(chǎn)量提高作出貢獻(xiàn)。

可檢測(cè)的Pattern上的超微顆粒的尺寸可小至0.35µm 。Reticle直徑1.0µm、線寬小至1.0µm的情況下，也可減少監(jiān)測(cè)錯(cuò)誤到zui小程度。通過*的光學(xué)處理方式減少檢測(cè)錯(cuò)誤Horiba*的信號(hào)處理可有效抑制低至1.0µm/1.0µmL&S級(jí)別的誤檢。通過可以有效鑒別Pattern的低通過濾器進(jìn)一步將錯(cuò)檢降至zui小程度。而這在高密度Pattern中降低誤檢率是非常有效的。