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磁感應(yīng)原理膜厚測(cè)量?jī)x-膜厚計(jì)

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更新時(shí)間:2016-06-30 14:47:19瀏覽次數(shù):608次

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磁感應(yīng)原理膜厚測(cè)量?jī)x采用磁感應(yīng)原理時(shí),利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,磁感應(yīng)膜厚儀來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚,則磁阻越大,磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀,原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。

磁感應(yīng)原理膜厚測(cè)量?jī)x

儀器適于測(cè)量各種非磁性金屬基體上絕緣性覆蓋層的厚度。主要用于測(cè)量鋁合金型材表面的陽(yáng)極氧化膜或涂層厚度,還可用于測(cè)量其它鋁材料、鋁工件表面的陽(yáng)極氧化膜或涂層厚度,以及其他有色金屬材料上絕緣性覆蓋層的厚度,測(cè)量塑料薄膜及紙張厚度。

儀器適于在生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)、銷(xiāo)售現(xiàn)場(chǎng)或施工現(xiàn)場(chǎng)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行快速、無(wú)損的膜厚檢查, 可用于生產(chǎn)檢驗(yàn)、驗(yàn)收檢驗(yàn)和質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)。
儀器符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4957-2003 《非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度測(cè)量渦流法》。

還是采用磁性原理測(cè)量較為合適

磁感應(yīng)原理膜厚測(cè)量?jī)xX射線衍射裝置
簡(jiǎn)單地說(shuō)螢光X射線裝置(XRF)和X射線衍射裝置(XRD)有何不同,螢光X射線裝置(XRF)能得到某物質(zhì)中的元素信息(物質(zhì)構(gòu)成,組成和鍍層厚度),X射線衍射裝置(XRD)能得到某物質(zhì)中的結(jié)晶信息。具體地說(shuō),比如用不同的裝置測(cè)定食鹽)時(shí),從螢光X射線裝置得到的信息為此物質(zhì)由鈉(Na)和氯(Cl)構(gòu)成,而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質(zhì)由(NaCl)的結(jié)晶構(gòu)成。單純地看也許會(huì)認(rèn)為能知道結(jié)晶狀態(tài)的X射線衍射裝置(XRD為好,但當(dāng)測(cè)定含多種化合物的物質(zhì)時(shí)只用衍射裝置(XRD)就很難判定,必須先用螢光X射線裝置(XRF)得到元素信息后才能進(jìn)行定性。膜厚儀也叫X射線測(cè)厚儀,它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后,由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài),此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái),而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度,來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

磁感應(yīng)原理膜厚測(cè)量?jī)x功能:

采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法,即可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度;
可采用兩種方法對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn),并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正;
操作過(guò)程有蜂鳴聲提示;
電池電壓指示:低電壓提示
自動(dòng)關(guān)機(jī)
測(cè)量方法:F 磁感應(yīng) NF 渦流

 

 

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