隨著微電子工業(yè)的發(fā)展, 對(duì)過(guò)濾器要求越來(lái)越嚴(yán), 德標(biāo)準(zhǔn)DIN24183提出
"zui容易穿透粒徑"(Most Penetrating Particle Size, 簡(jiǎn)稱MPPS)法, 并采用zui容易穿
透粒徑來(lái)檢測(cè)空氣過(guò)濾器的效率. 其實(shí)不同的濾料和不同的濾速zui容易穿透粒徑是
不同的, 一般在0.11um-0.25um范圍內(nèi). 然后以此粒徑測(cè)試其效率或用于掃描實(shí)驗(yàn).
MPPS是目前zui嚴(yán)格的試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn),
體測(cè)試一般采用DOP方法.

DOP(鄰苯二甲二辛酯)法: 實(shí)驗(yàn)塵源為0.3um單分散相DOP液滴, 測(cè)量粉塵儀器為光度
計(jì), 以氣樣的濁度差別來(lái)判定過(guò)濾器對(duì)DOP顆粒的過(guò)濾效率. 目前逐步采用大流量激光
粒子計(jì)數(shù)器或凝結(jié)核計(jì)數(shù)器對(duì)過(guò)濾器整個(gè)出風(fēng)面進(jìn)行掃描檢驗(yàn).

中標(biāo)準(zhǔn)	歐洲標(biāo)準(zhǔn) EN779-1993	美DOP法 0.3um效率/%	ASHRA標(biāo)準(zhǔn) 計(jì)重法效率/%	ASHRAE標(biāo)準(zhǔn) 比色法效率/%
粗效過(guò)濾器	G1		< 65
粗效過(guò)濾器	G2		65-80
粗效過(guò)濾器	G3		80-90
中效過(guò)濾器	G4		>=90
中效過(guò)濾器	F5			40-60
中效過(guò)濾器	F6	20-25		60-80
中效過(guò)濾器	F7	55-60		80-90
中效過(guò)濾器	F8	65-70		90-95
中效過(guò)濾器	F9	75-80		>=95
亞過(guò)濾器	H10	> 85
亞過(guò)濾器	H11	> 98
過(guò)濾器A	H12	> 99.9
過(guò)濾器A	H13	> 99.97
過(guò)濾器B	H14	> 99.997
過(guò)濾器C	U15	> 99.9997
過(guò)濾器D	U16	> 99.99997
過(guò)濾器D	U17	> 99.999997

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敏感元器件靜電壓標(biāo)準(zhǔn)

HBM模式(人體模式) ESD STM5.1-1998

級(jí)別	靜電壓范圍
Class 0	< 250V
Class 1A	250-<500V
Class 1B	500-<1,000V
Class 1C	1,000-<2,000V
Class 2	2,000-<4,000V
Class 3A	4000-<8,000V
Class 3B	>=8,000V

MM模式(機(jī)器模式) ESD STM5.2-1999

級(jí)別	靜電壓范圍
Class M1	< 100V
Class M2	100-<200V
Class M3	200-<400V
Class M4	>=400V

CDM模式( 放電模式) ESD STM5.3.1-1999

級(jí)別	靜電壓范圍
Class C1	< 125V
Class C2	125-<250V
Class C3	250-<500V
Class C4	500-<1,000V
Class C5	1,000-<1,500V
Class C6	1,500-<2,000V
Class C7	>=2,000V

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空氣過(guò)濾器標(biāo)準(zhǔn)和效率

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