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牛津儀器等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng)

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地嘉興市
  • 更新時間2022-10-01
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量185
  • 人氣值1686
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上海繪吉電子科技有限公司主要代理歐、美、日及國內(nèi)*科學儀器、工業(yè)質(zhì)檢儀器及相關消耗品,專業(yè)涉及高校、新能源、鋼鐵行業(yè)、科研研究及輕工化工、在國內(nèi)特別是華東地區(qū)具有廣泛的客戶基礎和良好的商業(yè)信譽。經(jīng)過幾年的發(fā)展,繪吉公司已經(jīng)在同行業(yè)中確立了多方面的好的地位,無論在公司規(guī)模、人員素質(zhì)、經(jīng)營品種、銷售能力和售后服務等各方面獲得了同行及用戶的廣泛認可。 上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀,真空系列等分析類設備),電池材料制備設備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。。
上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀等分析類設備),德國普發(fā)真空設備,電池材料制備設備,實驗室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實驗室耗材。
上海繪吉-德國普發(fā)真空Pfeiffer Vacuum-作為*的真空技術解決方案的供應商之一。我們不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵, 同時還擁有各種旋片泵,干泵,羅茨泵,氦氣質(zhì)譜檢漏儀,真空規(guī),四級質(zhì)譜儀等產(chǎn)品以及真空管件和綜合真空系統(tǒng)。 從普發(fā)1958年發(fā)明渦輪分子泵至今, 我們在分析、研發(fā)、鍍膜、太陽能、半導體和其他工業(yè)領域,始終代表著創(chuàng)新的解決方案、高品質(zhì)、穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品和的服務。公司自1890年創(chuàng)立至今百余年,現(xiàn)有將近2300名員工,20多家分公司遍布,并且在德國、法國、羅馬尼亞、韓國設有生產(chǎn)制造基地。
隨著中國綜合國力的提升,產(chǎn)業(yè)結構升級,以及對節(jié)能減排,科研和高精尖制造工藝的強烈需求,對真空技術的需求也在不斷的提升。作為德國 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全資子公司,普發(fā)真空技術上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入駐中國上海,標志著普發(fā)真空在中國的業(yè)務已經(jīng)初具規(guī)模,以及公司對中國持續(xù)增長的信心。公司現(xiàn)坐落于上海市浦東新區(qū)世紀公園附近,并且在江蘇無錫建有 4000m2 的售后服務工廠。
上海繪吉電子科技有限公司獲得深圳科晶智達科技有限公司一級代理權,科晶為研究新一代可充電電池,超級電容器與快速儲能材料提供完整的成套解決方案。方案定位于鋰電池的研究市場,主要為大專院校、科研院所以及生產(chǎn)企業(yè)提供實驗室用的小型混壓設備和機械加工與測試等一系列產(chǎn)品,提供研發(fā)環(huán)節(jié)所需的電池能源材料制備相關設備產(chǎn)品與成套實驗室方案:“混料-燒料-分析-涂層-成型-封裝-測試”設備:球磨機、高溫高壓爐、材料分析儀、涂層機、軋機、切片機、封裝機、電池分析儀等。
上海繪吉電子科技有限公司成功和進口公司合作。德國普發(fā)真空設備,德國布魯克儀器有限公司,*分析儀器有限公司,美國PE公司,美國熱電儀器有限公司,天美科技有限公司,島津,萊卡儀器,日本horriba,梅特勒等進口公司

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牛津儀器等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)
該設備是一個靈活和功能強大的等離子體刻蝕和淀積工藝設備。 采用真空進樣室進樣可進行快速的晶片更換、采用多種工藝氣體并擴大了允許的溫度范圍。
牛津儀器等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

牛津儀器等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)

   該設備是一個靈活和功能強大的等離子體刻蝕和淀積工藝設備。 采用真空進樣室進樣可進行快速的晶片更換、采用多種工藝氣體并擴大了允許的溫度范圍。

 
  具有大的工藝靈活性,適用于化合物半導體,光電子學,光子學,微機電系統(tǒng)和微流體技術, PlasmalabSystem100可以有很多的配置,詳情如下。


主要特點牛津儀器等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)

  • 可處理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")預制和試生產(chǎn)的能力

  • 選擇單晶片/批處理或盒式進樣,采用真空進樣室。 該PlasmalabSystem100可以集成到一個集群系統(tǒng)中,采用*機械手傳送晶片,生產(chǎn)工藝中采用全片盒到片盒晶片傳送. 采用一系列的電極進行襯底溫度控制,其溫度范圍為-150 ° C至700° C

  • 用于終端檢測的激光干涉和/或光發(fā)射譜可安裝在Plasmalab System100以加強刻蝕控制

  • 選的6 或12路氣箱為工藝流程和工藝氣體提供了選擇上的靈活性,并可以放置在遠端,遠離主要工藝設備


工藝
一些使用Plasmalab System100等離子刻蝕與沉積設備的例子:

  • 低溫硅刻蝕,深硅刻蝕和SOI工藝,應用于MEMS ,微流體技術和光子技術

  • 用于激光器端面的III - V族刻蝕工藝,通過刻蝕孔、光子晶體和許多其他應用,材料范圍廣泛(InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等)

  •  GaN、AlGaN等的預生產(chǎn)和研發(fā)工藝,比如HBLED和其它功率器件的刻蝕

  • 高品質(zhì),高速率SiO2沉積,應用于光子器件

  • 金屬(Nb, W)刻蝕

 

    的單晶片刻蝕技術-PlasmaPro100 Sapphire。牛津儀器致力于固態(tài)照明的技術革新,憑著在HBLED相關材料方面經(jīng)驗豐富,設備使用成本控制和符合產(chǎn)量要求的同時,我們的新技術還可以大化地提高客戶的產(chǎn)品良率。
    針對HBLED茍刻的化學環(huán)境要求,PlasmaPro100 Sapphire具有特殊的設計,可以在直徑為200mm的晶片上進行快速和均勻的刻蝕。牛津儀器一直努力地為客戶提供創(chuàng)新的、有效控制成本和可靠的工藝方案。這個設計的設備滿足了所有的要求。
   主要特點和優(yōu)勢包括:具有的靜電吸盤技術,能固定藍寶石,和生長藍寶石或硅上的氮化鎵;高功率的ICP能生產(chǎn)出高密度的等離子體;磁隔離區(qū)可提高離子控制和均勻性;高電導泵水系統(tǒng)可以在低壓下大化地運送氣體。

關鍵詞:機械手
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產(chǎn)品名稱參考價地區(qū)公司名稱更新時間 
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