圖1. 納米壓痕硬度測(cè)試儀（具備耐劃測(cè)試功能選項(xiàng)）納米壓痕儀配置的外觀(guān)；圖2.耐劃傷測(cè)試配置的外觀(guān)
納米壓痕硬度測(cè)試儀（具備耐劃測(cè)試功能選項(xiàng)）納米壓痕儀檢測(cè)方法和特征屬性：
‐ 儀器化壓痕測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)（ISO 14577(1-4)、ASTM E 2546-07）：硬度、楊氏彈性模量、回彈 系數(shù)；
‐ 耐劃測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)（ISO 20502、ASTM C1624）：硬度、附著力、開(kāi)裂、形變、切削和抗劃傷。
納米壓痕硬度測(cè)試儀（具備耐劃測(cè)試功能選項(xiàng)）納米壓痕儀應(yīng)用領(lǐng)域：
‐ 膜層和涂覆層（聚合物、電鍍層、等離子化學(xué)層、DLC（Diamond-Like Carbon類(lèi)金剛石薄膜）和其它涂覆層）；
‐ 微觀(guān)/納米級(jí)結(jié)構(gòu)的陶瓷；
‐ 金屬合金；
‐ 復(fù)合材料；
‐ 硬質(zhì)合金。
納米壓痕硬度測(cè)試儀（具備耐劃測(cè)試功能選項(xiàng)）納米壓痕儀特點(diǎn)：
‐ 儀器化壓痕測(cè)試方法是通過(guò)基于現(xiàn)場(chǎng)觀(guān)測(cè)的耐劃/壓痕測(cè)試，利用測(cè)量負(fù)載對(duì)材料表面的滲透度來(lái)表征材料硬度，它具有如下優(yōu)勢(shì)：不再需要對(duì)劃痕和壓痕尺寸進(jìn)行光學(xué)顯微測(cè)量；它允許量化參數(shù)，如彈性模量、回彈系數(shù)等；
‐ 全尺寸耐劃測(cè)試和硬度儀器化壓痕測(cè)試過(guò)程使用的是同一試驗(yàn)頭，可表征膜層、涂覆層和強(qiáng)化層的綜合特性。
‐ 高分辨率縮放光學(xué)顯微鏡可為操作者提供耐劃/壓痕測(cè)試的現(xiàn)場(chǎng)觀(guān)測(cè)，從而獲知所需的材料特征屬性；
‐ 電機(jī)驅(qū)動(dòng)樣品定位系統(tǒng)（樣品臺(tái)）可自動(dòng)的對(duì)一給定樣品的表面積進(jìn)行一系列的測(cè)試，這些測(cè)試數(shù)據(jù)可用于結(jié)果的統(tǒng)計(jì)分析。
‐ MNT的設(shè)計(jì)特點(diǎn)使之不需要其它額外的防聲音和防震設(shè)施。
納米壓痕硬度測(cè)試儀（具備耐劃測(cè)試功能選項(xiàng)）納米壓痕儀主要技術(shù)性能和參數(shù)：
| 納米壓痕測(cè)試儀 | 納米壓痕測(cè)試儀+耐劃測(cè)試 |
壓痕參數(shù) | ||
施加標(biāo)準(zhǔn)（垂直）負(fù)載的范圍 | *大至1000mN(100g) | |
負(fù)載分辨率 | 10µN | |
硬度測(cè)量范圍 | 1…60 GPa(～10…6000 HV ) | |
彈性模量測(cè)量范圍 | 10…1000 GPa | |
壓痕移動(dòng)間距 | 1 nm | |
| 耐劃測(cè)試參數(shù) | |
*大側(cè)向（水平）力,mN | - | 100mN |
側(cè)向力分辨率，µN | - | 10µN |
*大劃痕距離，mm | - | 50 mm |
| 定位系統(tǒng) | |
樣品尺寸（*大） | 50x50x30mm | 100x100x30mm |
樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 | 25x25mm | 50x50mm |
樣品臺(tái)移動(dòng)步幅 | 100nm | 100nm/30nm |
| 7倍縮放數(shù)碼光學(xué)顯微鏡 | |
視域 | - | 1.2x1.6Ч ~ 0.18x0.24 |
光學(xué)分辨率 | - | 5µm |
數(shù)碼攝像機(jī) | - | 5百萬(wàn)像素 |
| 測(cè)量單元尺寸 | |
尺寸（W x H x D） | 260x300x180 | 330x354x250 |
重量 | 9.5 kg | 21.5 kg |
納米壓痕硬度測(cè)試儀（具備耐劃測(cè)試功能選項(xiàng)）納米壓痕儀標(biāo)準(zhǔn)配置（圖1）：測(cè)量單元、工作站、可更換壓頭、標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試塊、使用說(shuō)明書(shū)。
可選耐劃測(cè)試配置：縮放光學(xué)顯微鏡、數(shù)碼攝像機(jī)。
