專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司（總經(jīng)理Max Haider先生）共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標(biāo)準型號顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時，探針電流提高了10倍。
最近，該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場發(fā)射電子槍，進一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時，該型號系列還增加了一款不帶球差校正的主機配置，可以以后加配球差校正進行升級。
特點 |
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
- HAADF-STEM圖像0.136nm，F(xiàn)FT圖像0.105nm（高分辨率鏡頭（*））
- HAADF-STEM圖像0.144nm（標(biāo)準鏡頭）
- 明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204nm（w/o球差校正儀）
高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍
- 元素面分布更迅速及時
- 低濃度元素檢測
操作簡化
- 自動圖像對中功能
從樣品制備到觀察分析實現(xiàn)無縫連接
- 樣品桿與日立聚焦離子束系統(tǒng)兼容
配有各種選購件可執(zhí)行各種評估和分析操作
- 同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布（*） 和DF/EELS面分布（*）圖像。
- 低劑量功能（*）（使樣品的損傷和污染程度降至）
- 高精度放大校準和測量（*）
- 實時衍射單元（*）（同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案）
- 采用三維微型柱旋轉(zhuǎn)樣品桿（360度旋轉(zhuǎn)）（*），具有自動傾斜圖像獲取功能。
- ELV-3000即時元素面分布系統(tǒng)（*）（同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像）
（*） 選購件
技術(shù)指標(biāo)
HD-2700球差校正掃描式透射電子顯微鏡
項目 | 描述 | |
| 圖像分辨率 | w/o球差校正儀 | 保證 0.204nm（當(dāng)放大倍數(shù)為4,000,000時） |
| w球差校正儀 | 保證 0.144 nm（當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時）（標(biāo)準鏡頭） | |
| 保證 0.136nm（HAADF圖像） 保證0.105 nm（通過FFT）（當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時）（高分辨率鏡頭（*）） | ||
| 放大倍數(shù) | 100倍 至 10,000,000倍 | |
| 加速電壓 | 200 kV, 120 kV （*） | |
| 成像信號 | 明場掃描透射電子顯微鏡：相襯圖像（TE圖像） 暗場掃描透射電子顯微鏡：原子序數(shù)襯度圖像（Z襯度圖像） 二次電子圖像（SE圖像） 電子衍射（*） 特征X射線分析和面分布（能譜分析）（*） 電子能量損失譜分析和面分布（EV3000）（*） | |
| 電子光學(xué)系統(tǒng) | 電子源 | 肖特基發(fā)射電子源 |
| 冷場致發(fā)射器（*） | ||
| 照明透鏡系統(tǒng) | 2-段聚光鏡鏡頭 | |
| 球差校正儀（*） | 六極鏡頭設(shè)計 | |
| 掃描線圈 | 2-段式電磁感應(yīng)線圈 | |
| 原子序數(shù)襯度收集角控制 | 投影鏡設(shè)計 | |
| 電磁圖像位移 | ±1 μm | |
| 試片鏡臺 | 樣品移動 | X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm |
| 樣品傾斜 | 單軸-傾斜樣品桿：±30°（標(biāo)準鏡頭）, ±18°（高分辨率鏡頭（*）） | |
| 真空系統(tǒng) | 3個離子泵，1個TMP | |
| 極限真空 | 10-8 Pa（電子槍）, 10-5 Pa（樣品室） | |
| 圖像顯示 | 個人電腦／操作系統(tǒng) | PC/AT兼容, Windows? XP |
| 監(jiān)視器 | 19-inch液晶顯示器面板 | |
| 圖像幀尺寸 | 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素 | |
| 掃描速度 | 快掃，慢掃（0.5至320秒／幀） | |
| 自動數(shù)據(jù)顯示 | 記錄序號，加速電壓，下標(biāo)尺，日期，時間 | |
