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  • Denton  等離子體增強型化學氣相沉積 PE-CVD

Denton 等離子體增強型化學氣相沉積 PE-CVD

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時間2022-08-03
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量230
  • 人氣值469
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深圳市科時達電子科技有限公司創(chuàng)建于2011年,經(jīng)過十年的發(fā)展,已經(jīng)成長為一家專注于電子材料、半導體儀器設備、醫(yī)療設備三大產(chǎn)品領域的,是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的企業(yè)。我們的主營業(yè)務涉及了研發(fā)銷售及加工電子材料及周邊產(chǎn)品;電子光電產(chǎn)品設備研發(fā)組裝及銷售,半導體儀器設備銷售;國內(nèi)貿(mào)易、貨物及技術進出口;醫(yī)療器械研發(fā)及銷售;醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等??萍紕?chuàng)新是科時達公司的核心競爭力。我們擁有一支高度專業(yè)化的技術研發(fā)和管理團隊,建立了國內(nèi)的實驗室和光電研究中心,與多家科研機構與大專院校開展“產(chǎn)、學、研”合作,成功開發(fā)出一系列具有高科技含量的市場產(chǎn)品,公司產(chǎn)品通國內(nèi)科研機構的產(chǎn)品認證。同時,公司擁有電子信息領域相對完備的科技創(chuàng)新體系,在電子裝備、醫(yī)療設備、產(chǎn)業(yè)基礎、網(wǎng)絡安全等領域占據(jù)技術主導地位,肩負著支撐科技自立自強、推進國內(nèi)科技現(xiàn)代化、加快數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展、服務社會民生的重要職責。聚焦“三大定位”主責,科時達公司按照“做優(yōu)電子裝備、做大儀器設備、做精產(chǎn)業(yè)基礎、做強研發(fā)銷售”的總體布局,持續(xù)優(yōu)化核心業(yè)務體系,推動企業(yè)在科技現(xiàn)代化建設、現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)體系建設的核心關鍵技術節(jié)點上“布點”,在產(chǎn)業(yè)鏈價值鏈創(chuàng)新鏈關鍵環(huán)節(jié)上“成線”,在關系國家、國民經(jīng)濟命脈和國計民生關鍵領域上“控面”。做強電子裝備,重點發(fā)展利用聲、光、電磁信號進行信息感知、傳輸、運用等的系統(tǒng)級裝備和產(chǎn)品,打造全域多維一體新一代電子裝備,不斷夯實在高??蒲蓄I域和高科枝企業(yè)的提供地位。做大儀器設備,重點發(fā)展半導體儀器基礎設施和醫(yī)療設備應用與整體解決方案,全面支撐基于網(wǎng)絡信息體系的聯(lián)合和全域能力提升、國家治理能力提升和數(shù)字化發(fā)展。做精產(chǎn)業(yè)基礎,重點打造形成電子基礎產(chǎn)品科研和生產(chǎn)的基礎支撐能力,以夯實產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈自主可控能力為根本目標,推動以“科時達基因”為核心的銷售集群式發(fā)展。做強研發(fā)銷售,致力于電子產(chǎn)品的研發(fā)??茣r達公司是一家,多年來公司研發(fā)團隊致力于電子材料、半導體儀器和醫(yī)療設備的研發(fā)。同時企業(yè)還致力于將產(chǎn)品做好國內(nèi)外市場銷售,在整體銷售模式中具備一套完整的銷售體系。以客戶需求為導向,以質(zhì)量求生存,科時達公司以超凡的品質(zhì)和優(yōu)良的服務,獲得國內(nèi)外市場的一致認可;公司營銷網(wǎng)絡覆蓋,產(chǎn)品世界各地,目前已經(jīng)成為國內(nèi)電子科技行業(yè)中重要的生產(chǎn)制造基地。
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PE-CVD解決方案與典型CVD反應器相比,等離子體增強型化學氣相沉積(PE-CVD)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案,同時不會降低薄膜質(zhì)量。高質(zhì)量的二氧化硅(SiO2)膜可以在300℃至350℃沉積,而CVD需要650℃至850℃的溫度生產(chǎn)類似質(zhì)量的鍍膜。PE-CVD使用電能產(chǎn)生輝光放電(等離子體),其中能量轉(zhuǎn)移到氣體混合物中。
Denton 等離子體增強型化學氣相沉積 PE-CVD 產(chǎn)品詳情



Denton  等離子體增強型化學氣相沉積 PE-CVD (圖1)

PE-CVD解決方案

與典型CVD反應器相比,等離子體增強型化學氣相沉積(PE-CVD)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案,同時不會降低薄膜質(zhì)量。高質(zhì)量的二氧化硅(SiO2)膜可以在300℃至350℃沉積,而CVD需要650℃至850℃的溫度生產(chǎn)類似質(zhì)量的鍍膜。

PE-CVD使用電能產(chǎn)生輝光放電(等離子體),其中能量轉(zhuǎn)移到氣體混合物中。這將氣體混合物轉(zhuǎn)化成反應性自由基、離子、中性原子和分子,以及其他高活性物質(zhì)。在PE-CVD中,氣相和表面反應受到等離子體性質(zhì)的強烈控制。代替熱活化,氣體混合物的電子碰撞電離驅(qū)動氣相反應,能夠在比常規(guī)CVD工藝低得多的溫度下進行沉積。 對于PE-CVD,沉積速率通常不是基片溫度的強函數(shù),表面活化能通常很小。然而,薄膜性質(zhì),例如,組成、應力和形態(tài),通常是基片溫度的強函數(shù)。

等離子體增強CVD的優(yōu)點

PE-CVD鍍膜的一些理想性能包括,良好的粘附性、低針孔密度、良好的保形性,以及平面和三維表面上的均勻性。 PE-CVD的實用性和靈活性在于,其能夠在從硅片到汽車部件的各種基材上沉積高質(zhì)量的鍍膜。此外,等離子體增強CVD系統(tǒng)比常規(guī)CVD提供更低的擁有成本。

丹頓真空公司專門從事等離子增強CVD (PE-CVD),沉積類金剛石(DLC)鍍膜。DLC鍍膜是一類無定形碳膜,表現(xiàn)出與金剛石相似的性能,例如,硬度、抗刮擦性和高導熱性。此外,DLC鍍膜由于其生物相容性、紅外透明性和電絕緣性能,在商業(yè)方面價值。丹頓公司已經(jīng)開發(fā)專有的能力,擴展DLC的特性范圍,包括抗指紋和疏水性。

我們的 Voyager PE-CVD解決方案提供低溫濺射,具有高度均勻性


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