數(shù)字控制磁懸浮渦輪分子泵UTM-FH/FW系列 日本 ULVAC
UTM-FH和UTM-FW是采用五軸磁懸浮和數(shù)字控制的復(fù)合渦輪分子,實現(xiàn)了高性能、高可靠性和節(jié)能的優(yōu)點。UTM-FH系列提高了氫氣的壓縮比,具有較高的背壓和高壓縮類型,適用于輕到中工藝。UTM-FW系列產(chǎn)品范圍廣,流量大,適用于高負(fù)荷和中、硬工藝。
【特征】
豐富變化的泵速,從350升/秒(12.3CFM)到大的6300 L/s(222.4CFM)(數(shù)字磁控軸承類型)。
可維護(hù)的,穩(wěn)定的泵送性能,防止背壓變化(FH系列)。
可選擇的內(nèi)部加熱系統(tǒng),以控制轉(zhuǎn)子溫度,減少副反應(yīng)副產(chǎn)物(FW系列)的附著力。
優(yōu)良的防腐表面處理(不包括3303 FH和6300 FH)??蛇x擇的特殊表面處理(如鍍鎳+陽離子電沉積,特殊沉積膜,鋁陽極氧化)是必要的。
可以在各個方向上安裝。
變速系統(tǒng)標(biāo)志著泵送速度可從25%改變到99%。
由于采用無耦合系統(tǒng)和無調(diào)諧系統(tǒng),不限制將任何電源和泵主單元組合起來改變電纜長度。
利用再生能源自給發(fā)電,采用無黃油系統(tǒng)作為斷電時的備用電源。麻煩的黃油更換是不必要的。
內(nèi)置監(jiān)控/自診斷和通信功能,可配置集中監(jiān)控系統(tǒng)。
采用斷裂吸能結(jié)構(gòu)的安全設(shè)計,可減少泵故障時對真空系統(tǒng)的損壞。
通過空氣沖擊試驗、各種碰觸試驗、轉(zhuǎn)子強(qiáng)制破壞試驗和國外材料跌落試驗(硅片下落)等試驗,實現(xiàn)了高耐久性和高可靠性。
【應(yīng)用】
utm-fh系列
在沒有任何副作用的情況下,如蒸發(fā)器、濺射系統(tǒng)、干法刻蝕等光中間過程的主要排氣。
器、研發(fā)系統(tǒng)、實驗室設(shè)備等的主要排氣。
主要為諸如H2和He等輕氣設(shè)備和系統(tǒng)進(jìn)行排氣。
多渦輪分子泵具有集中式反泵配置。
utm-fw系列
干法刻蝕、CVD系統(tǒng)等中硬工藝的主要排氣。
用于干刻蝕、CVD系統(tǒng)、濺射系統(tǒng)等的高流量抽吸。
分析儀器、研發(fā)系統(tǒng)、實驗室設(shè)備等的主要排氣。
【規(guī)格】
數(shù)字控制磁懸浮渦輪分子泵UTM-FH/FW系列 日本 ULVAC
UTM-FH和UTM-FW是采用五軸磁懸浮和數(shù)字控制的復(fù)合渦輪分子,實現(xiàn)了高性能、高可靠性和節(jié)能的優(yōu)點。UTM-FH系列提高了氫氣的壓縮比,具有較高的背壓和高壓縮類型,適用于輕到中工藝。UTM-FW系列產(chǎn)品范圍廣,流量大,適用于高負(fù)荷和中、硬工藝。
【特征】
豐富變化的泵速,從350升/秒(12.3CFM)到大的6300 L/s(222.4CFM)(數(shù)字磁控軸承類型)。
可維護(hù)的,穩(wěn)定的泵送性能,防止背壓變化(FH系列)。
可選擇的內(nèi)部加熱系統(tǒng),以控制轉(zhuǎn)子溫度,減少副反應(yīng)副產(chǎn)物(FW系列)的附著力。
優(yōu)良的防腐表面處理(不包括3303 FH和6300 FH)。可選擇的特殊表面處理(如鍍鎳+陽離子電沉積,特殊沉積膜,鋁陽極氧化)是必要的。
可以在各個方向上安裝。
變速系統(tǒng)標(biāo)志著泵送速度可從25%改變到99%。
由于采用無耦合系統(tǒng)和無調(diào)諧系統(tǒng),不限制將任何電源和泵主單元組合起來改變電纜長度。
利用再生能源自給發(fā)電,采用無黃油系統(tǒng)作為斷電時的備用電源。麻煩的黃油更換是不必要的。
內(nèi)置監(jiān)控/自診斷和通信功能,可配置集中監(jiān)控系統(tǒng)。
采用斷裂吸能結(jié)構(gòu)的安全設(shè)計,可減少泵故障時對真空系統(tǒng)的損壞。
通過空氣沖擊試驗、各種碰觸試驗、轉(zhuǎn)子強(qiáng)制破壞試驗和國外材料跌落試驗(硅片下落)等試驗,實現(xiàn)了高耐久性和高可靠性。
【應(yīng)用】
utm-fh系列
在沒有任何副作用的情況下,如蒸發(fā)器、濺射系統(tǒng)、干法刻蝕等光中間過程的主要排氣。
器、研發(fā)系統(tǒng)、實驗室設(shè)備等的主要排氣。
主要為諸如H2和He等輕氣設(shè)備和系統(tǒng)進(jìn)行排氣。
多渦輪分子泵具有集中式反泵配置。
utm-fw系列
干法刻蝕、CVD系統(tǒng)等中硬工藝的主要排氣。
用于干刻蝕、CVD系統(tǒng)、濺射系統(tǒng)等的高流量抽吸。
分析儀器、研發(fā)系統(tǒng)、實驗室設(shè)備等的主要排氣。
【規(guī)格】