磁控濺射儀
襯底尺寸:4'為主,6'兼容。
濺射金屬膜厚均勻性要求:≤±5%。
靶位:4個(gè)。
極限壓力:<6.6×10-6e Pa。
靶材尺寸:3英寸。
可濺射磁性材料。
靶與樣品距離可調(diào),且可以在30度角度內(nèi)擺頭。
配置load-lock,可放置5片6英寸樣品,在高真空狀態(tài)下,由電動(dòng)馬達(dá)分別傳送每片樣品,順序?yàn)R射每片樣品,逐一完成5片濺射鍍膜。
樣品臺(tái)可加熱至750度,可旋轉(zhuǎn)。
全自動(dòng)真空度控制模塊。
氣路:Ar、O2、N2。
射頻電源:2個(gè),每個(gè)600W。
直流電源:2個(gè),每個(gè)1000W