等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
PECVD:是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上可達(dá)8路MFC和多樣化的氣體選擇;
均勻性:≤±3%;
預(yù)抽真空室和自動(dòng)晶片裝卸門;
全自動(dòng)控制;
應(yīng)用領(lǐng)域:
等離子誘導(dǎo)表面改性;
等離子清洗;
等離子聚合;
SiO2, Si3N4, DLC及其它薄膜;
碳納米管(CNT)的選擇性生長(zhǎng)。