顯微式激光測振儀VSM4000-MICRO-
芯片振動模態(tài)應力等方面研究神器
VSM-1000-MICRO顯微式激光測振儀
基于自混干涉技術的激光測振儀的構造要比傳統(tǒng)的多普勒效應的激光測振儀簡單得多。從半導體二極管出來的激光打到反射或散射表面后，一小部分背反射或背散射的光再次進到激光腔體，然后產生干涉信號，從中可以得到被測表面法向方向的位移 。
VSM-1000-MICRO采用兩種激光。測量振動的激光是紅外（波長1310nm），不可見的。紅外和不可見激光是的眼睛安全的。另外一個紅色的指示激光是為不可見的紅外激光對中之用。為了不占滿攝像機，紅色指示激光的功率減到1Mw，光斑大小為10um.激光測振儀被附在顯微鏡的特殊調節(jié)架上，邊通濾波鏡主要用以紅外激光和可見激光的反射，然后分別聚焦到測試目標上。濾波鏡能夠
傳遞20%從測試表面上散射回來的光，并且在CMOS攝像機的傳感器上聚焦。為了能對中方便，顯微鏡裝在一個俯仰、傾斜和旋轉位移臺上。顯微激光測振儀測量測試表面的法向分量的振動。
顯微式激光測振儀
光學指標 ：激光類型 ：
Pout < 1 mW @ 650 nm (collimated)
Pout < 15 mW @ 1310 nm (focused)
激光等級：
· Class 2 @ 650 nm (可見)
激光頭尺寸：50 mm x 70 mm x 105 mm
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控制單元尺寸：12.5 cm x 15.5 cm x 29.6 cm
彩色攝像機指標：
- 130萬像素(1280 x 1024)
黑白，彩色和近紅外CMOS傳感器 - 像素 ：1280 x 1024 Pixels
- 工作距離： 21.7 mm
- 激光深度： 0.048 mm
- 光斑直徑：
4.0 µm - 范圍：300um
x 250 um (X50目鏡)
激光測振儀指標：
量程：
頻率范圍：0-50 KHz
分辨率：
精度 ：+-1% (0-50KHZ),+-5%(20KHZ-3MHZ)
應用 ：顯微式激光測振儀適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導線框架等產品的檢查觀察。
也適用于幾何形狀的顯微觀測，并且有三維的計量功能。因此是精密零件，集成電路，半導體芯片，光伏電池，光學材料等行業(yè)的儀器。
