產(chǎn)品介紹：
MI4050是具有以下特征的高性能聚焦離子束系統(tǒng)：新型電子光學(xué)系統(tǒng)，可達(dá)到高水準(zhǔn)的SIM像分辨率?大束流使加工速度得以提升?提高了低加速電壓的分辨率，使得高品質(zhì)TEM樣品制備成為可能
可用于截面加工觀察，高品質(zhì)TEM樣品制備，電路修復(fù)，Vector Scan加工，微納米級微細(xì)圖形及磨具加工，利用沉積功能制作3維構(gòu)造等眾多樣品加工應(yīng)用。
探針電流90nA，實(shí)現(xiàn)快速加工和大面積加工
焊線的截面加工
（加工尺寸 寬：95µm 深：55µm， 加工時(shí)間 20min）
通過提高極低加速電壓（0.5kV～）加工及低加速電壓二次電子圖像分辨率，實(shí)現(xiàn)制備損傷率更低的TEM樣品
* 1kV以下為選配
可觀察高分辨率SIM成像（二次電子成像分辨率高達(dá)4nm@30kV）
采用高精度5軸電動機(jī)械優(yōu)中心馬達(dá)臺
可在樣品臺移動（包括傾斜）時(shí)自動對多個(gè)部位進(jìn)行多種加工。
的操作性能和多種多樣的加工模式
1、截面制備程序加工
2、TEM/STEM樣品程序加工
3、自動連續(xù)加工
4、TEM樣品自動連續(xù)精加工軟件
5、位圖加工
6、Vector Scan加工
7、制備納米精度三維結(jié)構(gòu)樣品 其他
懸空納米導(dǎo)線制作
樣品來源：兵庫縣立大學(xué) 松井真二 先生
SIM像三維重構(gòu)分析
等間隔截面加工與截面觀察的往復(fù)進(jìn)行，可取的多張截面連續(xù)SIM像，并進(jìn)行3維重構(gòu)。由此可判斷樣品中顆粒，孔洞等3維分布狀態(tài)。
使用多路氣體系統(tǒng)（MGS-II）修復(fù)電路
該系統(tǒng)可對應(yīng)保護(hù)膜材料、配線材料、絕緣膜、加速蝕刻等多種用途，照射多種氣體。
1、鎢沉積氣體
2、鉑沉積氣體
3、絕緣膜制備用沉積氣體
4、氟化氙蝕刻氣體
5、有機(jī)類蝕刻氣體
6、碳沉積氣體
使用XeF2氣體實(shí)現(xiàn)的大深徑比孔加工以及采用鎢沉積引線
豐富多樣的坐標(biāo)鏈接功能
日立公司的坐標(biāo)鏈接功能豐富多樣，可確定正確的加工位置和大幅縮短時(shí)間。
1、光鏡圖像與SIM像的鏈接
雙光標(biāo)功能
日本第4634134號 美國第7595488號
2、與缺陷檢測設(shè)備建立坐標(biāo)鏈接
已截?cái)嗟木г蛐酒部膳c缺陷檢測設(shè)備建立坐標(biāo)鏈接。
3、CAD聯(lián)用導(dǎo)航軟件
產(chǎn)品規(guī)格：
| 項(xiàng)目 | 內(nèi)容 |
| 樣品尺寸 | 50mm×50mm×12mm（t）以下 |
| 樣品臺 | 5軸電動機(jī)械優(yōu)中心馬達(dá)臺 |
| 加速電壓 | 1～30kV?。?.5kV～ 選配） |
| （0.5～1.0kV ： 步長0.1kV） | |
| （1.0～2.0kV ： 步長0.2kV） | |
| 二次電子分辨率 | 4nm＠30kV |
| 探針電流 | 90nA |
| 探針電流密度 | 50A/cm2 |
產(chǎn)品選購件：
1、4通道供氣系統(tǒng)
2、自動連續(xù)加工軟件
3、TEM樣品自動加工軟件
4、控制器顯微鏡 其他
*：可選擇其他MI系列的各種選配件。
