Q235 等離子去膠機(jī)-儀表網(wǎng)

公司介紹主營產(chǎn)品

上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測設(shè)備、封裝設(shè)備、測試設(shè)備。目前公司已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士，擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的團(tuán)隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

主要應(yīng)用晶圓顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠去除，光刻膠的去除及對樣片是否有損傷，將影響到后續(xù)工藝和器件的性能。

Q235 等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品詳情

● 應(yīng)用領(lǐng)域：高劑量離子注入光刻膠的去除，濕法或干法刻蝕前后殘膠去除，MEMS 中犧牲層的去除，去除化學(xué)殘余物，去浮渣工藝，SU-8 光刻膠去除等

● 設(shè)備優(yōu)勢：去膠速度快，對產(chǎn)品損傷小，設(shè)計緊湊，操作簡單

● 工藝腔室：石英材質(zhì)，11 升

● 樣品尺寸：6 寸，向下兼容（可支持 8 寸）

● 腔門：抽屜式，帶觀察窗

● 微波源：2.45GHz，50 - 600W 可調(diào)

● 氣路：標(biāo)配兩路工藝氣體，帶質(zhì)量流量計(可升級至 4 路）

● 真空規(guī)：pirani，1-1×105Pa

● 真空泵：干泵或油泵可選

● 控制系統(tǒng)：10.4 寸觸摸屏，Windows系統(tǒng)，圖形化操作界面

● 電力需求：3 / N / PE AC 50Hz 400 / 240V 16A

● 整機(jī)尺寸：620(W) × 550(D) × 500(H) mm

典型應(yīng)用

● 等離子去膠，適合小批量生產(chǎn)，也適合于研發(fā)、實驗室

● 去除光刻膠

● 干刻或濕刻處理前或后

● SU-8 或其他環(huán)氧基樹脂

● MEMS 制造中去除犧牲層

技術(shù)規(guī)格

● 等離子源：2.45Ghz 微波等離子源，600W

● 腔體：石英 .φ235mm，長 260mm
適用于 Wafer 200mm（8英寸）小批生產(chǎn)及實驗

● 外觀尺寸：長 460mm，寬 590mm，高 550mm

● 處理氣體：2 路氣體+數(shù)字 MKS 流量控制器

● 真空腔門：抽屜式門+觀察窗

● 溫控 Wafer Chuck

● 觀察窗：UV 與微波屏蔽保護(hù)

● GUI 7" 觸摸屏，Window CE 操作系統(tǒng)

選項

● 進(jìn)口干泵系統(tǒng)（含相關(guān)附件）

● 法拉第籠

● 石英舟

● 信號燈塔-紅黃綠三色

● 額外的處理氣體線路-最多至 4 路氣體

● 包裝，運(yùn)輸

關(guān)鍵詞：質(zhì)量流量計真空泵控制系統(tǒng) 觸摸屏流量控制器

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
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