高水質(zhì)保障:能生產(chǎn)出電阻率高達 18MΩ?cm 以上,總有機碳(TOC)含量低于 5ppb,顆粒計數(shù)每毫升不超過幾個,微生物含量極低的超純水,確保蝕刻清洗過程中不會對芯片表面造成污染和損傷。
自動化程度高:配備**的 PLC 控制系統(tǒng)和傳感器,可實時監(jiān)測和控制水質(zhì)、壓力、流量、溫度等參數(shù),實現(xiàn)自動運行、自動調(diào)節(jié)、自動保護和故障報警,減少人工操作和維護成本。
穩(wěn)定可靠運行:采用高品質(zhì)的膜組件、泵、閥門等關(guān)鍵部件,經(jīng)過嚴格的設計和測試,設備運行穩(wěn)定可靠,能夠長時間連續(xù)供應高質(zhì)量的超純水,確保蝕刻清洗工藝的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
靈活定制化:可根據(jù)不同的生產(chǎn)規(guī)模、水質(zhì)要求和工藝需求,進行模塊化設計和定制化配置,方便設備的安裝、調(diào)試和擴展,滿足不同客戶的個性化需求。
節(jié)能環(huán)保:采用節(jié)能型泵和優(yōu)化的工藝流程,降低能耗;同時,EDI 技術(shù)的應用減少了酸堿廢水的排放,符合環(huán)保要求。