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PHI quantera SXM掃描X射線光電子能譜儀-X光電子能譜儀

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時間2019-07-28
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量21
  • 人氣值1805
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一直以來,用戶經(jīng)常在市場上尋找儀器分析高濃度氣體,標準的MS-200型TOF-MS飛行時間質(zhì)譜儀并不一定是此類應用的理想選擇,因為標準的MS-200型  TOF-MS采用的是雙薄膜進樣系統(tǒng),靈敏度非常高。當我們對其進樣系統(tǒng)進行改造后,MS-200型  TOF-MS可快速分析高濃度有機氣體,很好地滿足石油勘探公司的分析需求。 石油勘探公司采改裝后的MS-200型TOF-MS快速分析有高濃度有機氣體。在石油鉆探操作的大部分時間內(nèi),需要分析的是被釋放的高濃度烴類氣體。因此,采用毛細管進樣(而不是外層薄膜進樣)的MS-200型TOF-MS更能適合石油勘探公司分析高濃度有機氣體的需求。 

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PHI quantera SXM掃描X射線光電子能譜儀
根據(jù)X射線掃描樣品表面所得的二次電子像(ScanningX-ray Image,斑束直徑為9-200微米)能正確而迅速地確定分析位置
PHI quantera SXM掃描X射線光電子能譜儀-X光電子能譜儀 產(chǎn)品詳情

PHI quantera SXM掃描X射線光電子能譜儀世界掃描式X射線源根據(jù)X射線掃描樣品表面所得的二次電子像(ScanningX-ray Image,斑束直徑為9-200微米)能正確而迅速地確定分析位置  分析靈敏度高(采用32通道檢測器)  與普通的入射透鏡視場限制式X射線光電子譜儀相比微區(qū)分析靈敏度約提高10-20倍(<30微米,和 本公司的入射透鏡視場限制式X射線光電子譜儀相比)  利用低能電子束和低能離子束同時照射樣品使得絕緣材料的分析變得非常方便(因為對所有絕緣材料使用近乎相同的中和條件并且該中和條件在測定時會自動開啟) 使用新型離子槍能快速地進行深度剖面分析并可獲 得高深度分辨率  

PHI quantera SXM掃描X射線光電子能譜儀離子化:能量以這樣的方式從初級離子被轉(zhuǎn)移到樣品表面,在撞擊的地區(qū)附近,導致有相當表面的范圍分裂,造成釋放低質(zhì)量的原子和分子種類。在撞擊地區(qū),能量進一步傳到基質(zhì)導致釋放出更高質(zhì)量的分子種類。 靜態(tài):有一個初級離子轟擊的狀態(tài),被稱為“靜態(tài)”SIMS,這種狀態(tài)下每次撞擊在樣品表面的離子數(shù)量很低,使每個連續(xù)的初級離子能撞擊 到未經(jīng)撞擊的表面。這種靜態(tài)SIMS不會突然結(jié)束,但普遍接受的只限于?1012至1013初級離子/cm2 。時間飛行質(zhì)譜遵循靜態(tài)SIMS的規(guī)則。  TRIFT分析器:TRIFT分析器不斷重新聚焦二次離子在光譜儀。該分析儀具有超大的角和能源驗收,通過采用具有優(yōu)良離子傳輸能力的三重重點半球形靜電分析器可達到高空間分辨率和質(zhì)量分辨率。

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