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HMDS涂膠烤箱

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-07-15
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限9
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量111
  • 人氣值1089
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合肥真萍電子科技有限公司是專業(yè)的從事環(huán)境與可靠性試驗設(shè)備及實驗 室儀器,防潮防氧化專業(yè)設(shè)備,烘烤制程設(shè)備等產(chǎn)品專業(yè)供應(yīng)商,由一批多年從事環(huán)境試驗設(shè)備、防潮防氧化設(shè)備行業(yè)的專業(yè)工程技術(shù)人員為核心,具有設(shè)計、制造、銷售及售后服務(wù)能力的綜合性企業(yè)。
  

公司主要生產(chǎn)和經(jīng)營:
  環(huán)境與可靠性試驗設(shè)備:高低溫試驗箱,恒溫恒濕箱,老化箱,快溫變化箱,                         霉菌試驗箱,鹽霧腐蝕試驗箱;

  防潮防氧化專業(yè)設(shè)備:防潮箱、氮氣柜、潔凈氮氣柜、恒溫恒濕柜、氧濃度控制

                       柜、真空柜、環(huán)境溫濕度監(jiān)控;PP/PVC氮氣柜;

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                 電腦無氧烤箱、高溫烤箱、等服務(wù)。
  

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一、產(chǎn)品概述:  HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要
HMDS涂膠烤箱 產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品概述

  HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親 水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。

  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

二、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域:在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS。作用:降低HMDS處理后的硅片接觸角,進而降低勻膠 時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度,提高光刻膠與硅片的黏附性,降低光刻膠的用量。

三、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的原理: 預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。


四、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程


  1.首先設(shè)定烘箱工作溫度。
  2.打開真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達到某一真空度后
  3.開始充人氮氣,充到達到某一低真空度后,
  4.再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,
  5.開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。
  6.然后再次開始抽真空,
  7.加熱HMDS管道,
  8.充入HMDS氣體到達設(shè)定時間后,停止充入HMDS藥液,
  9.三面加熱箱體使溫度達到150度左右
  10.進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。
  11.當(dāng)達到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空。

  12.充入氮氣,完成整個作業(yè)過程。


  說明:去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(基硅烷基較大)阻止其進一步反應(yīng)

五、 尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。 在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。


六、主要技術(shù)指標(biāo)


  6.1 機外殼采用冷扎鋼板噴塑處理,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
  6.2 箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度。
  6.3 微電腦智能控溫儀,具有設(shè)定,測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,控溫精確,可靠。
  6.4 智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時間。
  6.5 HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。整個系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造,無發(fā)塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境。
  6.6 HMDS管路加熱功能,使HMDS液體進入箱體的前端管路加熱,使轉(zhuǎn)為HMDS氣態(tài)時更易。
  6.7 低液報警裝置,采用紅外液體感測器,能及時靈敏給出指令(當(dāng)HMDS液過低時發(fā)出報警及及時切斷工作起動功能)
  6.8 溫度與PLC聯(lián)動保護功能(當(dāng)PLC沒有啟動程序時,加溫功能啟動不了,相反加溫功能啟動時,PLC程序不按正常走時也及時切斷工作功能,發(fā)出警報)
  6.9整個箱體及HMDS氣體管路采用SUS316不銹鋼材料,整體使用無縫焊接(避免拼接導(dǎo)致HMDS液體腐蝕外泄對人體的傷害)


七、整機尺寸、真空腔體尺寸


  7.1 內(nèi)膽尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;
  7.2 載物托架:2塊
  7.3 室溫+10℃-250℃   控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃   溫度波動度:±0.5℃
  7.4 真空泵:油泵或無油真空泵。真空度:133pa,
  7.5 加熱方式:腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為外置加熱板(防止一側(cè)加熱使的HMDS液進入箱體內(nèi)不能完本轉(zhuǎn)成氣態(tài))
  7.6 可放2寸晶圓片或4寸晶圓片;6寸晶圓片;8寸晶圓片等。
  7.7開箱溫度可以由user自行設(shè)定來降低process時間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按產(chǎn)品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為 常規(guī)降溫);

八、安全保護措施

  8.1安全可靠的接地保護裝置;工作室超溫保護; 加熱器短路保護。
  8.2 電源缺相、錯相、漏電、短路保護;
  8.3 獨立的工作室超溫保護(溫度上限保護);
  8.4加熱器短路及過載保護;
  8.5 低液報警裝置(當(dāng)HMDS液過低時發(fā)出報警及及時切斷工作起動功能)
  8.6 溫度與PLC聯(lián)動保護功能(當(dāng)PLC沒有啟動程序時,加溫功能啟動不了,相反加溫功能啟動時,PLC程序不按正常走時也及時切斷工作功能,發(fā)出警報)
  8.7整個箱體使用無縫焊接(避免拼接導(dǎo)致HMDS液體外泄對人體的傷害)
  8.8 HMDS氣體管路采用一體成型進口SUS316不銹鋼材料(避免腐蝕外泄)。
  8.9 提供HMDS換液專用防護罩。

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