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儀器簡介冷原子吸收（CVAA）測汞儀結(jié)合上一代測汞儀的成熟技術(shù)和新型的TCP/IP通訊技術(shù)確保數(shù)據(jù)穩(wěn)定性與準確性

透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設(shè)計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗

CPC系列生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景

桌面型、可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件的等離子體清洗設(shè)備，幾乎具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能

小型等離子體清洗設(shè)備，傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念，采用頂置真空倉，上開蓋下壓式鉸鏈開關(guān)方式，上置式360度自由取放樣品托盤設(shè)計，具有較大的腔體尺寸和樣品處理面...

其外觀美學設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更...

等離子清洗機在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原...

應(yīng)用領(lǐng)域等離子清洗機在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、...

掃描電鏡（SEM）等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設(shè)計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等腔體內(nèi)碳氫化合物的清洗

應(yīng)用領(lǐng)域：等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的

應(yīng)用領(lǐng)域：等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的

等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的

等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的

應(yīng)用領(lǐng)域：等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的

紫外臭氧清洗機（UVOZONECLEANER,UVO）,是一種簡單,經(jīng)濟，快速髙效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英,硅片,金,鐐,鋁,碑化...

紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物

紫外臭氧清洗機原理：通過紫外燈發(fā)出適當強度的185nm和254nm波長高能紫外線破壞有物分子(污染物)

儀器簡介歷經(jīng)50余年技術(shù)研發(fā)與進步，德國Berghof公司Speedwave系列微波消解系統(tǒng)在AAS、ICP-OES、ICP-MS及電化學分析等領(lǐng)域，特別是在痕...

實驗室石墨電熱板產(chǎn)品特點一.5寸全彩觸摸屏智能程序化梯度控溫技術(shù)，控溫精度±0.1℃

多功能電熱板除了具備恒溫電熱板功能特點外，其采用防傾灑邊沿設(shè)計理念，有效防止樣品容器不慎傾倒或破碎導致液體傾灑，污染實驗室，保證實驗人員安全