日本東京電子公司生產的TEL牌涂膠顯影機CLEANTRACK ACT8/12，是有著良好性能和可靠性的半導體微電子生產設備,是可對應200/300mm硅片生產的涂膠顯影設備。
半導體制造設備涂膠顯影機,應用于半導體制造的光刻工藝中，是感光劑(photoresist)的涂布(coat)和顯影(develop)的設備。在該設備的涂膠（coat）單元中，硅片上面的感光劑首先被涂布，后被送到曝光設備里，通過光刻機將MASK上面圖形投影到硅片上。
接下來,硅片回到涂膠顯影機的顯影單元中，通過對硅片表面感光膠噴涂顯影液，使被感光部分的感光劑融化，這樣wafer上就出現(xiàn)了凹凸的圖形。經過各種工序重復,最終就形成了細微而復雜的集成電路。
設備各個單元功能說明
工藝技術指標與要求：
涂膠膜厚均勻性：3sigma 小于 10nm
顯影條寬均勻性：（0.15μmCD 測試）3sigma 小于 10nm
腔體氨氣濃度：<1ppb（FAB 環(huán)境小于 100ppb 條件下）
CHP 熱板（如果有）：50～200℃(±0.3℃)
產能：60WPH
與曝光機聯(lián)機要求:需與曝光機聯(lián)機作業(yè)(inline)。
