The SUSS MA/BA6 SUSS MA/BA6 掩模對準器被廣泛認為是半導體微米研究和微系統(tǒng)生產(chǎn)的基準。憑借其創(chuàng)新設(shè)計,該平臺可滿足客戶對精度、靈活性和低成本的需求。 在實驗室環(huán)境中,在 MA/BA6上設(shè)計的工藝很容易轉(zhuǎn)移到自動 SUSS 掩模對準器上進行批量生產(chǎn)。
主要特色: +頂面/底面/紅外線對準 +定制照明可減少衍射曝光光學 +手動或自動臺 +從 2mm到150mm 的晶圓或方形加工 +處理易碎、翹曲或不平整的晶片和碎 片 +頂部小至幾毫米的碎片通過底邊對齊 +高精度鍵合對準 +用于全晶圓納米范圍的壓印光刻