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山東普爾晟儀器有限公司
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  • 烤膠機(jī)

    烤膠機(jī)采用智能程序化控溫技術(shù),控溫精準(zhǔn)均勻,加熱快速高效,維修簡(jiǎn)單方便,控溫范圍在室溫-360℃之間,控溫精度達(dá)到0.1℃

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 9:10:22 對(duì)比
  • 旋涂機(jī)(勻膠機(jī))

    旋涂機(jī)原理:旋涂機(jī)(spincoater)是一種薄膜制備設(shè)備

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 9:08:51 對(duì)比
  • 表面去膠 - 等離子去膠機(jī)

    產(chǎn)品特點(diǎn)u7寸彩色觸摸屏互動(dòng)操作界面,自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài),20個(gè)配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 9:07:15 對(duì)比
  • 透射電鏡樣品桿存儲(chǔ)儀

    TEM透射樣品桿長(zhǎng)期暴露于大氣中,空氣中水汽及污染物會(huì)附著于樣品桿表面,會(huì)導(dǎo)致電鏡抽真空時(shí)間延長(zhǎng),污染電鏡真空腔室、探測(cè)器等,影響電鏡的使用壽命

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 9:05:59 對(duì)比
  • 表面刻蝕-等離子刻蝕機(jī)

    應(yīng)用領(lǐng)域:主要用于微電子芯片、太陽(yáng)能電池、生物芯片、顯示器、光學(xué)、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 9:04:47 對(duì)比
  • 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)

    CPC系列生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級(jí)客戶而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:26:38 對(duì)比
  • 中試型等離子清洗機(jī)

    桌面型、可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件的等離子體清洗設(shè)備,幾乎具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:25:11 對(duì)比
  • CPC-G系列實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)

    小型等離子體清洗設(shè)備,傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念,采用頂置真空倉(cāng),上開(kāi)蓋下壓式鉸鏈開(kāi)關(guān)方式,上置式360度自由取放樣品托盤設(shè)計(jì),具有較大的腔體尺寸和樣品處理面...

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:23:51 對(duì)比
  • CPC-F系列實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)

    其外觀美學(xué)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,漂亮大氣,優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得處理樣品量更大,適用范圍更廣,性能更穩(wěn)定,操作更簡(jiǎn)便,性價(jià)比更高,使用成本更低,實(shí)用性更...

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:22:19 對(duì)比
  • 經(jīng)濟(jì)型實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)

    等離子清洗機(jī)在材料學(xué),光學(xué),電子學(xué),醫(yī)藥學(xué),環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用,主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原...

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:20:58 對(duì)比
  • CPC系列實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)

    應(yīng)用領(lǐng)域等離子清洗機(jī)在材料學(xué),光學(xué),電子學(xué),醫(yī)藥學(xué),環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用,主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、...

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:19:43 對(duì)比
  • 掃描電鏡等離子清洗機(jī)

    掃描電鏡(SEM)等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源設(shè)計(jì),清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于SEM或FIB等腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑?

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:18:30 對(duì)比
  • 粉體等離子清洗機(jī)

    應(yīng)用領(lǐng)域:等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:16:56 對(duì)比
  • 中試生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)

    應(yīng)用領(lǐng)域:等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:15:41 對(duì)比
  • 等離子清洗機(jī)G系列

    等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:14:30 對(duì)比
  • 等離子清洗機(jī)F系列

    等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:12:58 對(duì)比
  • 手套箱專用等離子清洗機(jī)

    應(yīng)用領(lǐng)域:等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:11:37 對(duì)比
  • 紫外臭氧清洗機(jī)(觸屏/按鍵)

    紫外臭氧清洗機(jī)(UVOZONECLEANER,UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速髙效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鐐,鋁,碑化...

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:10:03 對(duì)比
  • 紫外臭氧清洗機(jī)

    紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速高效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:08:46 對(duì)比
  • 紫外臭氧清洗機(jī)uvo

    紫外臭氧清洗機(jī)原理:通過(guò)紫外燈發(fā)出適當(dāng)強(qiáng)度的185nm和254nm波長(zhǎng)高能紫外線破壞有物分子(污染物)

    型號(hào): 所在地:青島市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/2/4 8:07:26 對(duì)比

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