摘要 EVG光刻機(jī)EVG610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和200mm的晶圓

摘要 特色：EVG6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米

摘要 主要用途：用于自動(dòng)非接觸近距離掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，進(jìn)行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達(dá)200毫米

摘要 1.應(yīng)用用于晶圓間對(duì)準(zhǔn)的自動(dòng)化鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)系統(tǒng)，用于研究和試生產(chǎn)

摘要 1.應(yīng)用自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)，適用于多種熔融/分子晶圓鍵合應(yīng)用

摘要 1.簡(jiǎn)介L(zhǎng)ITHOSCALE無(wú)掩模光刻機(jī)系統(tǒng)是一個(gè)革命性的，高度靈活的無(wú)掩模光刻曝光平臺(tái)面向容納晶片可達(dá)300毫米的各種微細(xì)加工應(yīng)用

摘要 1.集成光刻系統(tǒng)光刻機(jī)Track系統(tǒng)通過(guò)*集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動(dòng)化功能，完善了EVG光刻機(jī)產(chǎn)品系列

摘要 EVG鍵合機(jī)EVG510（晶圓鍵合機(jī)）是用于研發(fā)或小批量生產(chǎn)的晶圓鍵合系統(tǒng)-與大批量生產(chǎn)設(shè)備*兼容

摘要 1.產(chǎn)品簡(jiǎn)介EVG320D2W混合鍵合離子活化和清潔系統(tǒng)是一個(gè)高度靈活的平臺(tái)，具有通用的硬件/軟件接口，可與第三方拾放芯片鍵合系統(tǒng)無(wú)縫集成

摘要 山東云唐智能科技有限公司生產(chǎn)的高智能食用油苯并芘檢測(cè)儀可快速檢測(cè)食用油、芝麻油中的苯并芘含量是否超標(biāo)，通過(guò)快速、簡(jiǎn)捷、高效的處理方法，采用免疫競(jìng)爭(zhēng)法分析原理，可以確定樣品中是否含有苯并(a)芘，準(zhǔn)確度高，為各行業(yè)的用油安全提供相應(yīng)保障。

摘要品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號(hào)：NXQ400-8產(chǎn)地：美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代*的接近式和接觸式光刻及超高的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國(guó)各地眾多...

摘要品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號(hào)：NXQ800-6產(chǎn)地：美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q8000系列光刻機(jī)是以自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代*的接近式和接觸式光刻及超高的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國(guó)各地眾多企...

摘要PicoMaster 200無(wú)掩模激光直寫(xiě)光刻機(jī)●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界實(shí)力的成套全息設(shè)計(jì)軟件●230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度組件的多...

摘要PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫(xiě)設(shè)備，它具有每毫米超過(guò)1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創(chuàng)造微結(jié)構(gòu)。的全息設(shè)計(jì)軟件，提供了許多預(yù)先安裝的全息效果及其光柵、結(jié)構(gòu)的運(yùn)算方法，它們可以很輕松地將把這些效果組合起...

摘要MilkoScan FT+乳成分分析儀 所屬品牌：FOSS 產(chǎn)品特點(diǎn)：牛奶測(cè)試和乳群提高的未來(lái)MilkoScan FT+是一個(gè)高容量、全自動(dòng)化的牛奶分析儀（符合IDF和AOAC），用于交易支付和乳牛群質(zhì)量提高的分析檢測(cè)。它能提供快速、可靠和...

摘要BactoScan FC+ 牛奶細(xì)菌總數(shù)測(cè)定儀 所屬品牌：FOSS 產(chǎn)品特點(diǎn)：BactoScan細(xì)菌分析牛奶分析的強(qiáng)有力的方法基于已經(jīng)被證實(shí)的福斯技術(shù)，BactoScan通過(guò)測(cè)量原料乳當(dāng)中的細(xì)菌來(lái)衡量乳品的衛(wèi)生程度。僅僅幾分鐘就可以得到測(cè)量...

摘要食用油品質(zhì)檢測(cè)儀YT-SYP工業(yè)版特別適合食藥局、質(zhì)檢部門、學(xué)校企業(yè)食堂、連鎖快餐店、食品加工企業(yè)、油炸食品制造商、面包房等行業(yè)使用，也可以用于實(shí)驗(yàn)室對(duì)食用油品質(zhì)的初步篩選，對(duì)劣質(zhì)油、地溝油的鑒別等。能為您達(dá)到檢驗(yàn)油品品質(zhì)、節(jié)省食用油、保證產(chǎn)品的質(zhì)量、保證食品安全的目...

摘要 食品安全保障快速檢測(cè)箱外型小巧、莊重大方、攜帶方便

摘要 產(chǎn)品名稱：TM5食品安全分析儀產(chǎn)品介紹TM5食品安全分析儀，是普析公司推出的一款用于酶聯(lián)免疫檢測(cè)的專用儀器（酶標(biāo)儀）

摘要型號(hào)規(guī)格：OK-SGS10 檢測(cè)項(xiàng)目：食品安全監(jiān)督檢測(cè)項(xiàng)目、食品安全檢測(cè)項(xiàng)目、?；瘷z測(cè)項(xiàng)目、水產(chǎn)品質(zhì)量安全檢測(cè)項(xiàng)目、農(nóng)產(chǎn)品質(zhì)量安全檢測(cè)項(xiàng)目。 ...

摘要型號(hào)規(guī)格：OK-BGS10 檢測(cè)項(xiàng)目：，嘔吐毒素，赭曲霉毒素，玉米赤霉烯酮，克倫特羅，萊克多巴胺，，三聚氰胺，呋喃它酮。，，，、孔雀石綠、、、磺胺喹噁啉、、等 ...

摘要 晶圓鍵合機(jī)WaferBonding系列介紹：晶圓鍵合機(jī)應(yīng)用于晶圓臨時(shí)性鍵合/解鍵合（WaferBonding/Debonding)工藝晶圓鍵合機(jī)WaferBonding系列特點(diǎn)：4”-8”/8”-12”晶圓適用，支持極薄化晶圓的鍵合

摘要 產(chǎn)品名稱：便攜式過(guò)氧化氫檢測(cè)儀產(chǎn)品型號(hào)：EA700-H2O2EA700便攜式氣體檢測(cè)儀是一款以泵吸方式檢測(cè)氣體濃度的安全型設(shè)備，儀器采用進(jìn)口氣體傳感器，具有、精度高、響應(yīng)速度快，并且采用世界的嵌入式微控制器技術(shù)，操作簡(jiǎn)單，功能齊全，可靠性高，穩(wěn)定性和重復(fù)性好

摘要 總述：淇安科技在線式氣體探測(cè)器采用智能化氣體傳感器，是一款可對(duì)甲烷氣體進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測(cè)的智能化高性能檢測(cè)儀器

摘要 總述：淇安科技在線式氣體探測(cè)器采用智能化氣體傳感器，是一款可對(duì)溴化氫氣體進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測(cè)的智能化高性能檢測(cè)儀器

摘要 ASML二手KrF曝光機(jī)，光刻機(jī)現(xiàn)貨由青島佳鼎分析儀器有限公司提供，除此之外，我們的技術(shù)團(tuán)隊(duì)還支隊(duì)對(duì)光刻機(jī)的技術(shù)改造和方案對(duì)接

摘要 Nikon分步投影光刻機(jī)NSR-S204B，用于集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的微光刻工藝，通過(guò)投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復(fù)曝光在涂有膠層的硅片表面

摘要 TWINSCANNXT:1970Ci步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級(jí)浸沒(méi)式光刻工具，專為在成熟節(jié)點(diǎn)批量生產(chǎn)300毫米晶圓而設(shè)計(jì)

摘要 這些i-line步進(jìn)器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場(chǎng)大小，是曝光次臨界層的理想選擇，這些層大約占設(shè)備20層或更多層的一半

摘要 ASML 步進(jìn)式掃描DUV光刻機(jī) ArF曝光機(jī) NXT1970Ci/1980Di

摘要 i線步進(jìn)式光刻機(jī)NSR-SF155適用于廣泛的半導(dǎo)體器件的制造

摘要 2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm雙級(jí)光刻系統(tǒng)

摘要 支持多重曝光、實(shí)現(xiàn)了超高精度與高產(chǎn)出的ArF液浸式掃描光刻機(jī)ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S622DArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S622D專為20nm以下制程的量產(chǎn)而開(kāi)發(fā)，且采用了StreamlignPlatform

摘要 PAS5500/750FDUV步進(jìn)掃描系統(tǒng)使用成熟的248nmKrF技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)130nm的大規(guī)模生產(chǎn)

摘要 尼康NikonArF掃描光刻機(jī)NSR-S322F裝載了在液浸式裝置中取得優(yōu)秀業(yè)績(jī)的StreamlignPlatform，同時(shí)進(jìn)一步提高了重合精度與生產(chǎn)效率

摘要 佳能半導(dǎo)體光刻設(shè)備，高分辨率/高生產(chǎn)率KrF掃描儀FPA-6300ES6a二手翻新現(xiàn)貨優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：FPA-6300ES6a掃描儀提供高生產(chǎn)力通過(guò)使用新設(shè)計(jì)的ReticleWaferStages加速曝光過(guò)程，通過(guò)改進(jìn)對(duì)齊順序和減少晶圓處理時(shí)間來(lái)縮短處理時(shí)間

摘要 佳能半導(dǎo)體光刻設(shè)備-步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-3030EX6，專用于物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的KrF光刻機(jī)，分辨率達(dá)到150nm，可用電腦進(jìn)行遠(yuǎn)程操控

摘要 佳能i線步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-5550iZ2生產(chǎn)效率高，重疊精度高，能夠快速完成晶圓的測(cè)量和校準(zhǔn)，減少了晶圓處理的時(shí)間

摘要 二手現(xiàn)貨佳能光刻機(jī)FPA-5510iX，可在50mmx50mm的大曝光場(chǎng)上提供0.5um的分辨率在單次曝光中曝光大視野的能力為FPA-5510iX提供了很大的優(yōu)勢(shì)

摘要 佳能二手翻新光刻機(jī)FPA-5520iV，用于高級(jí)封裝的i-line步進(jìn)器，具有支持高分辨率和大曝光場(chǎng)的可選陣容，現(xiàn)貨支持

摘要 二手翻新佳能i線步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-8000iW處理515*510mm的大型面板基板，可實(shí)現(xiàn)大封裝PLP生產(chǎn)，同時(shí)具備1.0μm的分辨率，高效靈活

摘要 現(xiàn)有二手尼康Nikon翻新現(xiàn)貨光刻機(jī)NSR-1755i7一臺(tái)，價(jià)格大約$650,000左右，針對(duì)4寸/6寸晶圓，分辨率0.6umumLS

摘要 光刻機(jī)NSR-2005I8A用于集成電路生產(chǎn)中的微光刻工藝

摘要 NIKONNSRG8A步進(jìn)式光刻機(jī)用于半導(dǎo)體功率器件制造工藝中的光刻工序，即將圖形投影到涂有光刻膠的硅片上的裝置，由此使得所需圖形區(qū)域的光刻膠曝光

摘要 德國(guó)suss公司的ma8光刻機(jī)，兼容4、6、8英寸wafer，Led光源，3個(gè)獨(dú)立波長(zhǎng)(g、h、i)，可自定義